电阻率与晶向有关。对于各向异性的晶体,电导率是一个二阶张量,共有27个分量。特别,对于Si之类的具有立方对称性的晶体,电导率可以简化为一个标量的常数(其他二阶张量的物理量都是如此)。
电阻率的大小决定于半导体载流子浓度n和载流子迁移率μ:ρ=1/ nqμ。对于掺杂浓度不均匀的扩散区的情况,往往采用平均电导率的概念;在不同的扩散浓度分布(例如高斯分布或余误差分布等)情况下,已经作出了平均电导率与扩散杂质表面浓度之间的关系曲线,可供查用。
相同杂质浓度下,P型半导体电阻率是小于N型半导体电阻率的,因为P型半导体主要依靠空穴导电,N型半导体主要依靠电子导电。而在半导体内,空穴的迁移率远远小于电子的迁移率,常温下,硅中空穴迁移率为450cm/V/S,电子迁移率为1450cm/V/S,所以P型半导体表现出的电阻率比N半导体大得多。举例来说,硅体内掺相同剂量的磷和硼,比如1E15cm-3,则掺磷的N型半导体的电阻率为3~5欧姆厘米,而掺硼的P型半导体电阻率则为10~15欧姆厘米。半导体,具有负电阻温度系数,其电阻值是随温度的升高而减小,随温度的降低而增大,虽然温度升高粒子的无规则运动加剧,引起自由电子迁移率略为下降,然而自由电子的数目随温度的升高而增加得更快,所以温度升高其电阻值下降。欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
评论列表(0条)