超声波清洗半导体有什么作用呢？

超声波清洗时，在超声波的作用下，机械振动传到清洗槽内的清洗液中，使清洗液体内交替出现疏密相间的振动，液体不断受到拉伸和压缩。疏的地方受到拉伸，形成微气泡(空穴)，密的地方受到压缩。由于清洗液内部受超声波的振动而频繁地拉伸和压缩，其结果使微气泡不断地产生和不断地破裂。微气泡破裂时，周围的清洗液以巨大的速度从各个方向伸向气泡的中心，产生水击。这和中现象可以通过肉眼直接观察到，即在清洗液中可以看到有剧烈活动的气泡，而且清洗浓夜上下对流。此时若将手指浸入清洗液中，则有强烈针刺的感觉，上述这种现象称为超声富空化作用。在超声空化作用一定时间后，被清洗件上的污垢逐渐脱落(当然也有清洗液本身的作用在内)。

--华杨沐林塑秋实，科卓海纳立顶峰

超声波显微镜，全称应该是：超声波扫描显微镜，英文Scanning Acoustic Microscope，简称C-SAM，是一种在半导体业界、材料研究领域，广泛使用的一种高分辨无损检测设备。

顾名思义，超声显微镜，当然就是以超声波为主要的探测手段，超声探头频率从5M~1000M不等，应对不同材料、不同分辨率、不同的穿透特性来决定！它的主要原理是：探头发出一定频率的超声波，射到被测物体上，在物体的内部形成反射，接收探头接收的到超声波。当扫描机构作循环往复，接收探头就会接收到整个物体的信号，再通过工控机形成图像！

世界上最著名的超声显微镜企业是德国的KSI公司，它的V系列，如V400、V300等，堪称业界的经典和传奇；其次是美国的Sonoscan，它的Fastline系列，非常有创新力，能实现多工位扫描；德国还有一家叫PVATEPLA，半导体业界比较出名，它对晶圆、晶锭等测量有独到的技术，特别是它在MEMS、晶圆键合等领域的应用。还有一家是Sonix，它也是很多美国企业采用的。

国内有一家知名网站，CSAM世界网，可以看下。

又有一定影响，超声波后会在半导体表面形成一层薄薄的水层（如果你是用去离子水超声，如果是用酒精或者是丙酮的话也会有一层有机物的)这层水分子层不会很多也就几个原子的量级，但是用氮气或者氩气其表面的话仍然也会有一点影响，但是导致其电阻是否变大还是变小就不清楚了，这要看你半导体电阻的真实值和水层的电阻大小有关，如果你不想这层水层有影响的话，超声后最好放到真空烘箱里面烘一下，温度设定在50到60度。如果没有条件的话，建议多测几次求平均值。当然除了水的影响，可能还会跟半导体表面的微结构有关系，超声波是一种能量，这个能量有没有可能导致半导体表面微结构发生改变，这我也不知道。但是通常我们认为是没有关系的，如果在超声前和超声后的电阻变化不大，可以认为是没有影响的，但如果相差很大的话，你可以考虑是不是超声导致你的半导体结构发生改变了。

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