硅烷(SiH4)是做什么的材料?

硅烷气是太阳能电池生产过程中不可或缺的材料，因为它是将硅分子附着于电池表面的最有效方式。在高于400℃的环境下，硅烷气分解成气态硅和氢气。氢气燃烧后，剩下的就是纯硅了。

此外，硅烷气可以说是无处不在。除了光伏产业外，还有很多制造工厂需要用到硅烷气，如平板显示器、半导体、甚至镀膜玻璃生产厂。

用途： 是制造半导体硅器件的原料，用于制大功率整流器、大功率晶体管、二极管、开关器件等

制法：

硅烷的热稳定性随着分子中硅原子的增多而迅速降低。SiH4和Si2H6在400℃时开始分解，Si4H10在室温时已明显分解，Si6H14的分解速率更快。

硅烷在空气中可燃烧,生成SiO2和H2O；与卤素单质作用生成卤代硅烷，在催化剂存在下能与卤化氢作用生成卤代物。例如：

硅烷能被水分解，在微量酸或碱存在下反应速率加快：

SiH4+2H2O─→SiO2+4H2

硅烷与醇类反应，生成硅酸酯；在一些有机溶剂中或液氨中还能与碱金属、碱金属的氢化物和烷基化物进行置换或复分解反应。此外，硅烷在催化剂存在下，还能与氯仿发生氢和氯的对换作用。

硅烷最早是用硫酸或磷酸水解硅化镁Mg2Si来制备，产品是一种硅烷混合物。后来逐渐利用氢化铝锂与卤化硅在乙醚中反应来制备：

SiCl4+LiAlH4SiH4+LiCl+AlCl3

Si3Cl8+2LiAlH4Si3H8+2LiCl+2AlCl3

硅烷中的甲硅烷较重要,是热分解法制取超纯硅,生产半导体硅的原料。

做Si集成电路的fab里，你列举的这些都用的到。

硅烷和笑气，长氧化硅时候用。

HCL:清洗wafer的时候用。

CF4:蚀刻Si和氧化硅的时候用。

SF6:蚀刻Si的时候用。

其他还有BCl3, Cl2, Ar差不多都是蚀刻的使用。

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