中国半导体芯片龙头股排名前十的有:1、北方华创;2、中芯国际;3、兆易创新;4、卓胜微;5、紫光国微;6、韦尔股份;7、北京君正;8、华润微;9、扬杰科技;10、长电科技。
1、 北方华创。北方华创科技集团股份有限公司,简称北方华创,股票代码002371,是由北京七星华创电子股份有限公司和北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司战略重组而成,是目前国内集成电路高端工艺装备的先进企业。北方华创主营半导体装备、真空装备、新能源锂电装备及精密元器件业务,为半导体、新能源、新材料等领域提供解决方案。公司现有四大产业制造基地,营销服务体系覆盖欧、美、亚等全球主要国家和地区。
2、 中芯国际。中芯国际集成电路制造有限公司,港交所股票代码00981,上交所科创板证券代码688981。中芯国际是世界领先的集成电路晶圆代工企业之一,也是中国内地技术最先进、配套最完善、规模最大、跨国经营的集成电路制造企业集团。
3、 兆易创新。北京兆易创新科技股份有限公司成立于2005年,是一家领先的无晶圆厂半导体公司,致力于开发先进的存储器技术和IC解决方案。2016年8月,公司在上海证券交易所成功上市,股票代码603986。在中国市场,兆易创新的SPINORFLASH市场占有率为第一,同时也是全球排名前三的供应商之一。兆易创新的触控和指纹识别芯片广泛应用在国内外知名移动终端厂商,是国内仅有的两家的可量产供货的光学指纹芯片供应商。
4、 卓胜微。江苏卓胜微电子股份有限公司成立于2012年8月10日,于2019年6月18日在深圳证券交易所创业板上市,股票简称卓胜微,股票代码300782。公司专注于射频集成电路领域的研究、开发与销售,主要向市场提供射频开关、射频低噪声放大器、射频滤波器、射频功率放大器等射频前端分立器件及各类模组产品,同时公司还对外提供低功耗蓝牙微控制器芯片。
随着市场对半导体性能的要求不断提高,第三代半导体等新型化合物材料凭借其性能优势开始崭露头角,成为行业未来重要增长点。
相对于第一代(硅基)半导体,第三代半导体禁带宽度大,电导率高、热导率高。第三代半导体的禁带宽度是第一代和第二代半导体禁带宽度的近3倍,具有更强的耐高压、高功率能力。
氮化镓(GaN)和碳化硅(SiC)并称为第三代半导体材料的双雄,由于性能不同,二者的应用领域也不相同。
氮化镓、高电流密度等优势,可显著减少电力损耗和散热负载,迅速应用于变频器、稳压器、变压器、无线充电等领域,是未来最具增长潜质的化合物半导体。
与GaAs和InP等高频工艺相比,氮化镓器件输出的功率更大;与LDCMOS和SiC等功率工艺相比,氮化镓的频率特性更好。
随着行业大规模商用,GaN生产成本有望迅速下降,进一步刺激GaN器件渗透,有望成为消费电子领域下一个杀手级应用。
GaN主要应用于生产功率器件,目前氮化镓器件有三分之二应用于军工电子,如军事通讯、电子干扰、雷达等领域。
在民用领域,氮化镓主要被应用于通讯基站、功率器件等领域。氮化镓基站PA的功放效率较其他材料更高,因而能节省大量电能,且其可以几乎覆盖无线通讯的所有频段,功率密度大,能够减少基站体积和质量。
氮化镓在光电子、高温大功率器件和高频微波器件应用方面有着广阔的前景。随着5G高频通信的商业化,GaN将在电信宏基站、真空管在雷达和航空电子应用中占有更多份额。
根据Yole估计,大多数Sub 6GHz的蜂窝网络都将采用氮化镓器件,因为LDMOS无法承受如此之高的频率,而砷化镓对于高功率应用又非理想之选。
同时,由于较高的频率会降低每个基站的覆盖范围,需要安装更多的晶体管,因此市场规模将迅速扩大。
Yole预测,GaN器件收入目前占整个市场20%左右,到2025年将占到50%以上,氮化镓功率器件规模有望达到4.5亿美元。
从产业链方面来看,氮化镓分为衬底、外延片和器件环节。
尽管碳化硅被更多地作为衬底材料(相较于氮化镓),国内仍有从事氮化镓单晶生长的企业,主要有苏州纳维、东莞中镓、上海镓特和芯元基等。
从事氮化镓外延片的国内厂商主要有三安光电、赛微电子、海陆重工、晶湛半导体、江苏能华、英诺赛科等。
从事氮化镓器件的厂商主要有三安光电、闻泰 科技 、赛微电子、聚灿光电、乾照光电等。
GaN技术的难点在于晶圆制备工艺,欧美日在此方面优势明显。由于将GaN晶体熔融所需气压极高,须采用外延技术生长GaN晶体来制备晶圆。
其中日本住友电工是全球最大GaN晶圆生产商,占据了90%以上的市场份额。GaN全球产能集中于IDM厂商,逐渐向垂直分工合作模式转变。美国Qorvo、日本住友电工、中国苏州能讯等均以IDM模式运营。
近年来随着产品和市场的多样化,开始呈现设计业与制造业分工的合作模式。
尤其在GaN电力电子器件市场,由于中国台湾地区的台积电公司和世界先进公司开放了代工产能,美国Transphorm、EPC、Navitas、加拿大GaN Systems等设计企业开始涌现。
在射频器件领域,目前LDMOS(横向扩散金属氧化物半导体)、GaAs(砷化镓)、GaN(氮化镓)三者占比相差不大,但据Yoledevelopment预测,至2025年,砷化镓市场份额基本维持不变的情况下,氮化镓有望替代大部分LDMOS份额,占据射频器件市场约50%的份额。
GaAs芯片已广泛应用于手机/WiFi等消费品电子领域,GaN PA具有最高功率、增益和效率,但成本相对较高、工艺成熟度略低,目前在近距离信号传输和军工电子方面应用较多。
经过多年的发展,国内拥有昂瑞微、华为海思、紫光展锐、卓胜微、唯捷创芯等20多家射频有源器件供应商。
根据2019年底昂瑞微董事长发表的题为《全球5G射频前端发展趋势和中国公司的应对之策》的报告显示,截至报告日,国内厂家在2G/3G市场占有率高达95%;在4G方面有30%的占有率,产品以中低端为主,销售额占比仅有10%。
目前我国半导体领域为中美 科技 等领域摩擦中的卡脖子方向,是中国 科技 崛起不可回避的环节,产业链高自主、高可控仍是未来的重点方向。第三代半导体相对硅基半导体偏低投入、较小差距有望得到重点支持,并具备弯道超车的可能。
举世瞩目的高端芯片之战,再度点燃!
最近在IEEE ISSCC国际固态电路大会上, 三星亮出全球首款采用3nm工艺制造的SRAM存储芯片。
这款芯片容量可达256GB,面积仅56平方毫米,性能比上一代提升30%,功耗最多可降低50%,不出意外的话明年即可量产。
三星首秀3nm芯片精准卡位台积电,这背后意义重大。
在芯片制造领域,台积电向来一家独大,最先进的5nm工艺横扫天下,三星也只是勉强追平,前浪英特尔则完全被甩开。
作为旧时代IDM双杰之一,三星对此一直无法接受,所以在2019年启动“半导体2030计划”,计划10年内投资133万亿韩元(约7900亿元)成为全球最大的半导体公司,先进制程为规划重点,目标就是赶超台积电。
如今3nm芯片一触即发,三星能否超越台积电重登王座,坎坷的中国半导体又将走向何方?
壹
谈及高端芯片之争,必须先理清三星、台积电以及英特尔的关系。
半导体行业经过几十年发展,产业链各环节已非常成熟,上游材料设备,中游设计、制造,下游封测等环节分工明确,强者辈出。
唯独三星、英特尔不同,这两是全球仅存的IDM巨头(集设计、制造、封测三大环节于一体),基本不用依赖别人。
在很长时间里,全球芯片铁王座就是这两来回争,直到台积电异军突起,两极格局彻底被打破。
相比两大巨头,台积电出道晚成名也晚,当年还是靠接英特尔的低端订单成长起来的。其逆袭关键,在于张忠谋给公司定的铁律:作为晶圆代工厂,台积电只干制造,绝不插足上游设计,从而避免和客户竞争。
2010年iPhone 4 发布那会,苹果的A系列处理器还是三星负责代工,后来三星手机不是越做越大嘛,和苹果成对手了,台积电趁机拿下A系列芯片的订单, 从此和苹果深度绑定。
苹果之后,台积电相继拿下高通、华为等一系列大客户,营收连年新高,工艺也越来越先进,直到10nm制程开始全面领先三星,成为全球最强芯片代工厂。
到今天,全球只有台积电、三星掌握了5nm芯片工艺,英特尔则止步7nm退居二线。 而且三星的高端芯片良品率向来被诟病,苹果、华为的5nm订单基本全是台积电代工,实在来不及才考虑三星代工。
如果仅从营收规模来看,目前全球芯片双雄还是英特尔三星。根据Gartner发布的2020年半导体厂商营收预测,受益于疫情催化,去年服务器、PC等需求强劲,导致CPU、NAND闪存和DRAM市场表现亮眼。
整体来看,2020年全球半导体收入预计反d到4498亿美元,同比增长7.3%。
在其预测的全球半导体十大厂商中,英特尔和三星继续称霸。 其中,英特尔去年营收可突破700亿美元,同比增长3.7%;三星为560亿美元,同比增长7.7%。
台积电2020年报显示,公司全年营收为1.34万亿台币(约474亿美元),同比增长25%,净利润为5178亿台币(约183.3亿美元),同比增长50%。
从数据可以看出,双雄规模依旧,但营收增速比起台积电差的不是一点,这意味着未来很快被超越。 正是因为台积电未来预期更好,所以全球机构已提前站队:
目前英特尔市值为2556亿美元,台积电为6135亿美元,约为2.4个英特尔,问鼎全球市值最大半导体公司,新旧交替早已开始。
贰
高端芯片之战中,台积电技术、规模全面领先三星,但三星也不是完全没机会。
去年苹果将自研A14和M1芯片全给台积电代工,仅它一家就吃掉台积电25%的5nm产能,搞得台积电满负荷运转。
如果台积电产能短期内无法快速提升,那苹果将部分高端芯片订单交给三星再正常不过,而且高通的5nm就是三星代工的。
所以台积电再强产能也有极限,这就是三星潜在的赶超机会。
2020年5nm芯片落败于台积电后,三星曾设想在2年内量产3nm工艺,提前超越台积电。如今3nm来了,但提前超越可能言之尚早。
首先从产品来看,三星这次3nm首秀是用的SRAM存储芯片 ,也就是大家手机里的存储空间,这和台积电擅长的中央处理器无法相提并论。一个只负责手机里的存储,一个负责全方位的性能输出,哪个技术含量更高不言而喻。
从时间来看,三星其实也没真正超越,因为明年台积电的3nm也安排上了。
据报道,台积电3nm芯片预计2022年开始量产,其中苹果继续首批订货,3nm也会最先使用在iPhone、iPad和Mac芯片上。
去年5nm量产后,台积电和三星代工的高端芯片均有翻车迹象,比如发热、功耗高等,其中三星代工的问题更明显。
3nm大战时,三星也没法保证不再翻车,一切还是未知数。
结语:
我曾提过,芯片生产各大环节中,中国最薄弱的就是制造领域。
当台积电、三星已迈入3nm时代,我们的“全村希望”中芯国际连7nm都悬而未决,这意味着大陆在芯片制造领域的差距再次被拉大。
如果非要说中国半导体差在哪,应该是时间和决心。
过去10年,中国处于“茅房时代”,茅台股价和房价一飞冲天,大家习惯了赚快钱。
所幸一切在纠正:去年7月,国务院出台一个鼓励芯片行业发展的重磅政策,大意是:未来1—2年,国家鼓励的芯片设计、制造、封装等各个环节企业均可减免所得税。最高的,直接免税10年....
政策里还有两点很重要,一是新型“举国体制”,二是明确推进集成电路一级学科。就是要举国之力搞芯片,彻底突破封锁。
这次举国之力攻关,若能像日韩当年一样坚持5年、10年,未来高端芯片之争终将有中国一席!
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