三星电子成为全球半导体“新王”，智能手机核心零部件均被其垄断

2021年第二季度，三星电子赶超英特尔成为了全球最大的芯片生产商，这个默默无闻的三星集团，似乎在各行各业的路上都准备走上巅峰。

就在大多数的用户消费者都以为三星只是一家生产手机的手机厂商的时候，殊不知三星现在已经是许多手机核心零部件的第一大生产厂商，其地位可以说无法撼动，难以动摇，甚至说到了牵一发而动全身的高度。

从2017年三星的爆炸事件到现在，所有的消费者都以为三星手机几乎已经不会再出现在国内市场了，有了华为的替代三星，几乎没有机会再回到中国市场发展，但是事情的改变就是在一瞬间，从去年开始华为的销售量和库存都在大幅度大范围下降，三星也借此机会推出了很多低价格的产品，就连自家的S21旗舰系列都已经降到了4000多元的价格，这也表明了三星对于中国市场可以说非常重视，如果能够找回更多的中国市场份额，那么三星在全球范围内的销量以及第一的地位将会得到进一步的巩固。

这仅仅只是手机行业过去，在我们上一代人的眼中，三星不仅仅是卖手机的一个厂商，包括了电视，冰箱，洗衣机，以及各种大家电，三星都有所涉及，甚至一度都是高端形象的代表，即便是我们不讨论三星，关于芯片以及其他硬件的生产销售能力，三星依旧有实力，站在这个世界的顶端。

现如今三星的业务可以说遍布了所有的角落，在韩国本土，三星可以说是达到了一个峰值的水平，我们不谈论他在本土究竟有多少的业务，我们只谈论在我们能够使用的智能手机上有多少的核心业务是由三星主导的。

我们经常看一些手机的发布会，我们会看到如果一个手机厂商用最顶级的屏幕，那我这款屏幕，一定是来自于三星，包括我们购买组装电脑或者是笔记本电脑，可以看得到很多比较优质的固态硬盘，都是使用的三星固态硬盘，就类似于这样的核心零部件，三星大大小小有非常多，有些已经达到了业内顶尖，占据了全球市场占有率第一的位置，有些也就是在高端市场成为了唯一的选择。

像这篇文章，我们介绍的半导体代工以及生产，除了英特尔之外，三星是唯一有实力能够与其竞争的半导体厂商，甚至包括他们自己还有自主研发的芯片，猎户座处理器，虽然基本上都是自家在使用，因为本身作为手机厂商很多其他的厂商不愿意使用同行的产品，但是其性能依旧可以和高通的顶尖处理器相提并论。

最近被国内热炒的半导体行业一些企业，还没有拿出什么真正有实力的产品以及产能，就已经被资本捧到天上去，虽然说这是大力扶持的产业，但是仅因为投资领域的事情可能会影响这些半导体的企业未来的发展，他们短期内高估了自己的生产制造能力，以及无法正视与海外巨头厂商之间的差距，依靠着公司市值以及估值带来的收益就能让他们暂时放弃这些辛苦的工作，相比之下，还是尽可能的进行鞭策和沉下心来研发更为重要。

在此还是呼吁各位投资者以及所有的民众消费者，对于国内的半导体行业一定要正视态度，不要过于高捧，也不要过于贬低，我们仍然有充足的时间进行发展和进步。

日前，三星半导体博客刊发了一篇TECHnalysis Research公司总裁兼首席分析师Bob O'Donnell的文章，他提出了他对于过渡到全新Gate-All-Around晶体管结构的看法。通过重新思考和重新构建基本的晶体管设计，Bob认为技术行业可以期待几代工艺技术的改进，同时减少半导体尺寸和功率要求，以及提高半导体性能。

任何关注半导体行业的人都知道芯片性能提升的速度开始放缓。与此同时，工艺公司已经讨论了他们减少制造芯片尺寸时面临的一些挑战。虽然通常与摩尔定律的继续发展有关，但更多是伴随着半导体工艺节点尺寸的减小，影响性能的因素会持续增加。

就在几个月前，三星半导体的代工业务宣布了晶体管设计方面的一项重大新进展，称为Gate-All-Around（GAA），它有望在未来几年保持晶体管级半导体的发展。从根本上说，GAA提供了对基本晶体管设计的重新思考和重新架构，其中晶体管内部的硅通道完全被栅极材料包围，而不是像三极一样被栅极材料覆盖，就像FinFET设计一样，这种设计可以增加晶体管密度，同时增加沟道的缩放潜力。

整个 科技 行业都在期待着半导体工艺的改进，这些进步将继续降低半导体尺寸和功率，并提高半导体性能。GAA与极紫外光（EUV）光刻技术一起被认为是半导体制造领域下一个主要技术进步，这为芯片行业提供了从7nm到5nm到3nm工艺节点的清晰路径。

从技术上讲，由于GAA FET技术降低了电压，这也为半导体代工业务提供了一种超越FinFET设计的方法。随着晶体管不断缩小，电压调节已被证明是最难克服的挑战之一，但GAA采用的新设计方法减少了这个问题。 GAA晶体管的一个关键优势是能够降低电压缩放造成的功耗，同时还能提高性能。这些改进的具体时间表可能不会像行业过去那么快，但至少关于它们是否会到来的不确定性现在可能会逐渐改观。对于芯片和器件制造商而言，这些技术进步为半导体制造业的未来提供了更清晰的视角，并且应该让他们有信心推进积极的长期产品计划。

GAA的时机也是 科技 行业的偶然因素。直到最近，半导体行业的大多数进步都集中在单个芯片或单片SOC（片上系统）设计上，这些设计都基于单个工艺节点尺寸构建的硅芯片。当然，GAA将为这些类型的半导体提供重要的好处。此外，随着新的“小芯片”SOC设计的势头增加，这些设计结合了几个可以在不同工艺节点上构建的较小芯片组件，很容易被误解为晶体管级增强不会带来太多的价值。实际上，有些人可能会争辩说，随着单片SOC被分解成更小的部分，对较小的制造工艺节点的需求就会减少。然而，事实是更复杂，更细微。为了使基于芯片组的设计真正成功，业界需要改进某些芯片组件的工艺技术，并改进封装和互连，以将这些元件和所有其他芯片组件连接在一起。

重要的是要记住，最先进的小芯片组件正变得越来越复杂。这些新设计要求3mm GAA制造所能提供的晶体管密度。例如，特定的AI加速，以及日益复杂的CPU，GPU，FPGA架构需要他们能够集中处理的所有处理能力。因此，虽然我们会继续看到某些半导体元件停止在工艺节点的路线图中，并以更大的工艺尺寸稳定下来，但对关键部件的持续工艺缩减的需求仍然有增无减。

科技 行业对半导体性能改进的依赖已经变得如此重要，以至于工艺技术的潜在放缓引起了相当多的关注，甚至对可能对整个 科技 世界产生的影响产生负面影响。虽然GAA所带来的进步甚至没有使该行业完全解决了挑战，但它们足以提供行业所需的发展空间以保持其继续前进。

据businesskorea报道，代工咨询公司IBS 5月15日宣布，三星电子在 GAA技术方面领先台积电(TSMC)一年，领先英特尔(Intel)两到三年。GAA技术是下一代非存储半导体制造技术，被视为代工行业的突破者。

三星已被评估在FinFET工艺方面领先于全球最大的代工企业台积电。FinFET工艺目前是主流的非存储半导体制造工艺。

这意味着三星在当前和下一代代工技术上都领先于竞争对手。

三星于当地时间5月14日在美国Santa Clara举行的2019年三星代工论坛上宣布，将于明年完成GAA工艺开发，并于2021年开始批量生产。

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