离子注入implant 后为什么要asher 半导体技术天地

离子注入后退火：加热注入硅片，修复晶格损伤，使杂质原子移动到晶格点，将其激活。

高温退火和快速热处理相比，快速热处理更优越。

因为快速热处理可以避免长时间的高温导致杂质扩散，以及减小瞬间增强扩散。

简单的说就是芯片，就是集成电路。在硅片上做集成电路。成品就可以做CPU，内存条之类的。硅本身是一种半导体，所以海力士是半导体行业。当然工序很复杂，有CLEAN,CMP,THIN FILM,DIFFUSION,LITHOGRAPHY(PHOTO),ETCH,IMPLANT等。说多了你也不懂。

半导体(Semiconductor)是一种电导率在绝缘体至导体之间的物质，其电导率容易受控制，可作为信息处理的元件材料。

从科技或是经济发展的角度来看，半导体非常重要。很多电子产品，如计算机、移动电话、数字录音机的核心单元都是利用半导体的电导率变化来处理信息。

常见的半导体材料有硅、锗、砷化镓等，而硅更是各种半导体材料中，在商业应用上最具有影响力的一种。

硅基半导体自旋量子比特以其长量子退相干时间和高 *** 控保真度，以及与现代半导体工艺技术兼容的高可扩展性，成为量子计算研究的核心方向之一。

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