华为新专利引各国热议
据报道,华为宣布成功拿下了石墨烯晶体管专利,该专利还涉及了半导体领域,而这些技术的出现标志着中国在芯片研究领域进入了一个新的阶段。
石墨烯晶体管在石墨烯芯片研发上更是起着至关重要的作用,它能够提高电子的传输速度,同时有效增加芯片元件和器件的输出电阻,从而最大限度地提高射频性能。并且石墨烯芯片其独特的结构可以让雕刻呈现立体样式,这也极大地增加了芯片性能,现在华为宣布这项技术专利申请成功,无疑是国产芯片一个崭新的开始。
石墨烯芯片意义重大
石墨烯芯片的出现很可能将会彻底推动我国在半导体芯片研发中更进一步,而这种技术被我国掌握,也将会成为我国与美国 科技 对决中的一个“重大武器”。要知道目前市面上最常见的传统芯片遵循着一个定律——摩尔定律,早在半导体芯片研发之后,研发芯片的工程师曾经出过预言,日后每隔18-24个月,集成电路上可容纳的元器件的数目增加一倍,性能也将提升一倍。
这一预言对于传统芯片来说好比是一个诅咒,这意味着当集成电路上可容纳的元件数目达到一定数值时,传统芯片便很难有发展的前景。而随后石墨烯晶体的发现给人们提供了一个新的思路,但将想法变为现实的过程十分艰难,美国截至目前为止依旧没有攻破这一技术。
半导体芯片将迎来改革
现如今中国除了已经掌握石墨烯技术外,2020年5月北大团队制造出了纯度高达99.99%的碳纳米管阵列,其运转速度相较国外更快、耗能更低,相比较之下整整减少了三成耗能。据悉,碳纳米管阵列因为其优秀的性能,可以在更多的领域应用,不仅在人工智能、卫星定位等方面可以起到重要作用,同时在医疗设备、国防 科技 方面也有很大的用处。
有专家预测这种载流子迁移率和稳定性更高的碳纳米管阵列很可能将会取代传统的硅晶片,而石墨烯材料的出现更是为中国芯片铺垫了基础,届时中国势必会成为该领域的领头羊。
虽然我国在芯片技术制造工业中与美国还有不可逾越的鸿沟,但是我国芯片研发技术一直名列前茅,此次华为成功掌握石墨烯晶体管制造技术,也进一步证明我国完全有实力反超美国,现在所需要的只是时间。相信随着越来越多技术的突破,中国在芯片制造业也会取得进展,届时我国将会建立属于自己的芯片产业链,美国也无法再利用同样的手段限制中国。
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众所周知,光刻机对于一家芯片制造企业来说是非常重要的,没有光刻机,芯片的制造就是纸上画画,毫无实质性的作用,同样的道理,如果一颗高端工艺的芯片,设计出来,只是存在于图纸上,照样没有太多实质性的作用,就好比现在的华为,由海思设计出来的麒麟系列芯片,在全球市场上可是数一数二的,可是呢?现在的台积电受到美国技术的限制,没有办法继续为其生产了,海思麒麟就如一张白纸了,甚至在当时还被外界以及自己笑称,麒麟9000系列要成为“绝唱”了。
于是华为准备换道超车,一方面是自己打造芯片制造工厂,但是还需要很长的一段时间,另外,目前国内除了台积电以外,就没有一家芯片制造厂商具备这样的实力了,就连排名非常靠前的中芯国际,目前都只能量产14纳米的芯片,同时还在借助最新的DUV光刻机实现7纳米工艺的量产,而这项技术还是非常具有挑战性的,但是最近,有消息传出,华为最新的“芯”技术被曝光了,甚至还表示不再需要EUV光刻机了?
因为没有EUV光刻机,芯片制造厂商就很难制造出来高端的工艺芯片,而台积电正式得益于美国技术和来自于ASML的EUV光刻机,才有了现在的成就,当然其本身的实力也是不容小觑的,不然同样的机器设备,为何台积电的良品率就是要高于三星呢?再说回到华为“芯”技术的问题上,不借助光刻机真的能够打造出良品来吗?毕竟半导体芯片领域有史以来,都没有出现过这种情况。
俗话说得好“罗马不是一日建成的”,所以说华为也不可能让自己的芯片制造能力一蹴而就,更不可能突然冒出一项非常厉害的技术,然后让美国感到猝不及防,而是一步一步脚踏实地地慢慢来的,首先就是要在光刻机上有所突破,先把目前能够做到的技术精度做得更精,再者就是考虑新的替代材料,比如碳基材料,另外就是华为早有打算的光芯片, 探索 一下并不吃亏,甚至可能会有惊喜发生。
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