半导体蚀刻 POLY主要成分是什么

POLY产品主要原料由以下物料组成：1、POLY油（即树脂）分软POLY和普通两种,POLY油是产品中的主要成分.2、石膏粉（化学名Caco3）,与POLY油混合比例约为10：8.3、彩绘油漆,主要有平光与亮光漆之分.4、各种表面处理液：...

从器件来讲，主要是指栅极长度（一般，栅极长度小于栅极宽度）。

从加工精度来讲，主要是指套刻精度（最小间距）；最小线宽是引线孔尺寸。

因为并无统一的看法，仅供参考。

字面意思直译就可以，金属刻蚀，poly刻蚀，氧化物刻蚀。具体工艺条件无法回答，只能简单的说，这3中刻蚀在半导体行业都是干法刻蚀，也就是dry etch。主要区别在于所有的刻蚀气体不一样，比如，金属刻蚀用CL2，氧化物刻蚀用C4F6，C5F8。

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