半导体原材料清洗用纯水设备应用特点有哪些?

半导体原材料清洗用纯水设备应用特点有哪些?,第1张

1、工业纯水设备实行全自动、手动冲洗,EDI 装置无需化学再生,并节能回收

2、RO膜在机内可进行化学药物清洗

3、源水,纯水,超纯水箱液位实行全自动控制,高水位自动停机及自动清洗功能,低水位自动开机及前处理反冲洗功能。

4、多级高压泵缺水保护,高低压保护,二级RO浓水自动回用,并自动调节PH值。

5、失压、欠压、过流、过载、短路、断路、漏电保护。

全自动超声波清洗机相比较普通的超声波清洗机尺寸上要大很多,有多个清洗槽,每个清洗槽有各自的工序,机器由PLC程序控制实现全自动化,目前只能定制生产。全自动超声波清洗机可分全封闭/半封闭式,大多采用龙门多臂机械手移送工作,支持电脑触摸屏 *** 作,全自动超声波清洗机每道工序都可以自动化完成,大大降低了时间和人力成本。

目前,全自动超声波清洗设备广泛应用于各行各业:

(1)机械行业:防锈油脂的去除量具的清洗机械零部件的除油除锈发动机、化油器及汽车零件的清洗过滤器、滤网的疏通清洗等。

(2)表面处理行业:电镀前的除油除锈离子镀前清洗磷化处理清除积炭清除氧化皮清除抛光膏金属工件表面活化处理等。

(3)仪器仪表行业:精密零件的高清洁度装配前的清洗等。

(4)电子行业:印刷线路板除松香、焊斑高压触点等机械电子零件的清洗等。

(5)医疗行业:医疗器械的清洗、消毒、杀菌、实验器皿的清洗等。

(6)半导体行业:半导体晶片的高清洁度清洗。

(7)钟表首、饰行业:清除油泥、灰尘、氧化层、抛光膏等。

(8)化学、生物行业:实验器皿的清洗、除垢。

(9)光学行业:光学器件的除油、除汗、清灰等。

一、系统的硬件设计好

一般来说,在使用全自动超声波清洗机的时候都会给清洗的产品进行定时处理,而设备的系统硬件经过改进之后也可以直接显示出时间,人们在使用的时候可以根据设备原本设定的参数值进行调整,因为可以观察到,所以一些指标都能快速调节。直接实现了对不同物品的清洗。

二、设备运行稳定

当然,全自动超声波清洗机还具有的优点就是运行的过程非常的稳定,设备的各个子程序虽然在驱动上都是不相同的,但是却可以直接从主程序中调动子程序,也可以通过主程序进行 *** 控,并且全自动超声波清洗机只要打开开关设定好参数值,就能很稳定的进行清洗。

三、设备 *** 作方便

全自动超声波清洗机的 *** 作也是非常方便的,比如说,眼镜店里面的清洗机就是采用这种类型的设备,使用者只需要设置好相应的指标就能让可信赖的全自动超声波清洗机进行直接 *** 作,如此一来方便人们 *** 作的同时也节省了一定的时间。

综上所述可以知道,全自动超声波清洗机具有这些优点。全自动超声波清洗机的系统硬件设计比较好,在产品的表面上可以直接显示时间和一些指标,人们能够观看到指标也可以更好的进行调整,设备的 *** 作比较方便并且在运行过程中也相对稳定,一般也不容易出现意外状况。


欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出

原文地址: http://outofmemory.cn/dianzi/9068054.html

(0)
打赏 微信扫一扫 微信扫一扫 支付宝扫一扫 支付宝扫一扫
上一篇 2023-04-24
下一篇 2023-04-24

发表评论

登录后才能评论

评论列表(0条)

保存