半导体中怎么depfilm

使用溅射技术可以在半导体表面形成depfilm，溅射技术可以将原料形成液体或气体，然后用高能离子束将其射向半导体表面，形成一层薄膜。另外，还可以使用CVD或PECVD技术，将原料化学气相沉积在半导体表面，从而形成depfilm。

你说的这个应该是一个LTPS中的工艺，叫GI Deposition

也就是GI层沉积。GI是TFT中，栅极金属和半导体Si之间的绝缘层，通常为SiNx/SiOx称之为Gate Insulator 栅极绝缘层。

1、首先要找到控制面板，我们点开windows键，然后选择在所有应用中找到“Windows 系统”，打开之后，我们找到“控制面板”，打开。2、打开控制面板之后，我们选择程序。3、然后再程序中，找到“启动或关闭windows功能”。点击打开。4、在windows功能下面我们找到Hyper-V，勾选上。点击“确定”。5、等待一段时间后，安装完成，我们点击重启电脑。这里一定要重启电脑。6、重启电脑之后，我们可以在所有应用中看到有一个“Hyper-V 管理工具”，我们打开，点击Hyper-V管理器。就可以看到，我们的虚拟机已经能够用了。接下来就要靠你自己新建自己的虚拟机了。

---