1、铜陵碁明半导体有限公司,工作环境好,有空调等基本设施,同事之间融洽,领导和睦。
2、福利待遇好,员工工资在8000元,每个节假日都有单独的礼品,每月的饭补为300元,还有旅游卡,待遇丰厚。
今日科创板我们一起梳理一下芯碁微装,公司专业从事以微纳直写光刻为技术核心的直接成像设备及直写光刻设备的研发、制造、销售以及相应的维保服务,主要产品及服务包括 PCB 直接成像设备及自动线系统、泛半导体直写光刻设备及自动线系统、其他激光直接成像设备以及上述产品的售后维保服务,产品功能涵盖微米到纳米的多领域光刻环节。
公司专注服务于电子信息产业中 PCB 领域及泛半导体领域的客户,通过优秀产品帮助客户在提升产品品质和降低生产成本的同时实现数字化、无人化、智能化发展。 经过多年的深耕与积累,公司累计服务近 70 家客户,包括深南电路、健鼎 科技 、胜宏 科技 、景旺电子、罗奇泰克、宏华胜(鸿海精密之合(联)营公司)、富仕电子、博敏电子、红板公司、相互股份、柏承 科技 、台湾软电、迅嘉电子、珠海元盛(中京电子下属公司)、普诺威及大连崇达(崇达技术下属公司)、矽迈微、国显光电(维信诺下属公司)、中国科学院半导体研究所、中国工程物理研究院激光聚变研究中心、中国电子 科技 集团公司第十一研究所、中国科学技术大学、华中 科技 大学、广东工业大学等。
在 PCB 领域,公司提供全制程高速量产型的直接成像设备,最小线宽涵盖 8μm-75μm 范围,主要应用于 PCB 制造过程中的线路层及阻焊层曝光环节,是 PCB 制造中的关键设备之一。
在泛半导体领域,公司提供最小线宽在 500nm-10μm 的直写光刻设备,主要应用于下游 IC 掩膜版制版以及 IC 制造、OLED 显示面板制造过程中的直写光刻工艺环节。
在 OLED 显示面板直写光刻设备领域,为进一步提高设备整体产能,满足面板客户的小批量、多批次生产与研发的需要,公司成功开发了 OLED 直写光刻设备自动线系统(LDW-D1),LDW-D1 采用多台 LDW X6 并联自动化生产,可以实现多个机台同时独立工作,整个自动线系统包括数个独立光刻机台和一个公用的机械传送装置,系统通过读码扫描生产信息进行参数调取,可以实时监测各个机台的运作情况并反馈到客户的 MES 系统,自动生成生产报表和生产日志报警信息,客户可以实时监控生产情况、修改生产工艺参数,从而保证产品的品质。
公司其他激光直接成像设备为丝网印刷激光直接制版设备,该产品主要应用于丝网印刷制版领域。
设备维保服务为公司设备及自动线系统实现销售后,在设备的使用寿命周期内,为下游客户提供周期性的设备关键零部件更换、设备维修、设备保养等服务。此外, 公司还提供少量的设备租赁服务 。
直写光刻设备可分为 PCB 直接成像设备、泛半导体直写光刻设备 ,其中泛半导体直写光刻设备又可进一步分为 IC 制造直写光刻设备、IC 及 FPD 掩膜版制版光刻设备、FPD 制造直写光刻设备等。上述不同的应用领域对直写光刻设备的技术水平具有不同的要求。
在 PCB 领域,近年来随着下游电子产品不断向高集成、高性能、高便携性等方向发展,PCB 产品高端化升级趋势明显,直接成像技术成为了目前 PCB 制造曝光工艺中的主流发展技术。在泛半导体领域,除掩膜版制版外,与掩膜光刻相比较,目前直写光刻在 IC 前道制造领域存在光刻精度及产能效率较低、在FPD 制造领域存在产能效率较低等问题,总体而言,直写光刻在泛半导体领域的应用领域相对较窄,在小批量、多品种泛半导体器件的生产与研发试制中具有比较优势,业务体量较小,是掩膜光刻的补充。
PCB 直接成像设备是 PCB 制造的关键设备之一,长久以来,我国 PCB 直接成像设备主要依靠从欧美、日本等发达国家进口,国内设备自给率极低。 近年来随着国家大力重视发展国产高端装备产业、全球 PCB 产业向中国大陆地区聚集以及 PCB 产业快速的技术更迭等因素的推动,我国国产 PCB 直接成像设备产业迎来了发展机遇。
公司自主研制的 PCB 直接成像设备及自动线系统在单位生产成本、曝光精度、生产效率、自动化、智能化等方面均具有突出的优势。公司拥有能够覆盖 PCB 各细分产品的全制程高速量产型直接成像设备,在曝光精度及生产效率方面具有较高水平,能够在替代现有 PCB 传统曝光设备的同时满足以 IC 载板为代表的高端 PCB 产品的生产需求,在 PCB 制造中具有较强的产品竞争力。凭借产品性能、性价比、服务能力等方面的优势,公司的 PCB 直接成像设备及自动线系统被多家知名 PCB 制造企业所采用,已同下游 PCB 制造产业形成深度产业融合。未来 PCB 产业的快速发展和 PCB 产品结构的不断升级,将进一步带动上游 PCB 直接成像设备市场的需求,从而不断推动 PCB 直接成像设备的技术进步。
泛半导体光刻设备是泛半导体制造以及掩膜版制版所需的关键设备之一。 近年来,IC、FPD 产业是我国重点发展的基础产业,其下游的通信、人工智能、物联网、消费电子等具有广阔的市场需求。泛半导体光刻设备的技术水平决定下游 IC、FPD 的制造水平, 我国虽是全球 IC、FPD 的需求大国,但核心装备和材料与发达国家相比,仍有明显差距。
公司的研发立足于泛半导体行业的市场需求和发展趋势,在技术攻坚和设备产品开发方面均取得了一定的突破。受限于生产效率与光刻精度等方面因素,目前直写光刻设备还无法满足泛半导体产业大规模制造的需求,但由于其无需掩膜版且使用灵活,在小批量、多品种泛半导体器件的生产与研发试制中具有比较优势。另外,在 IC、FPD 掩膜版制版领域,掩膜版制版光刻工艺中均使用直写光刻设备,该领域的设备基本被国外厂家垄断。在此背景下,公司通过技术攻关,开发了光刻精度 500nm 及以上的直写光刻设备,并成功向中国工程物理研究院激光聚变研究中心、中国电子 科技 集团有限公司下属研究所等知名科研单位实现了此类设备的市场销售;公司于 2018 年推出国产应用在OLED 显示面板低世代产线的直写光刻设备自动线系统(LDW-D1),并成功通过了下游知名显示面板制造客户研发试制产线的验证。公司通过与下游标杆客户建立深度的合作关系,在产品立项、需求定义、样机验证、升级迭代等各环节均得到了客户的支持,从而为公司提升直写光刻设备的性能及产业适用性提供了有力的支撑。
目前行业内的主要企业如下:
一、国内直写光刻技术行业的领先企业
芯碁微装成立于2015年;2019年整体变更为股份有限公司;2021年科创板上市。
二、业务分析
2017-2020年,营业收入由0.22亿元增长至3.10亿元,复合增长率141.53%,20年实现营收同比增长53.47%;归母净利润由-0.07亿元增长至0.71亿元,20年实现归母净利润同比增长47.92%;扣非归母净利润由-0.08亿元增长至0.55亿元,20年实现扣非归母净利润同比增长19.57%;经营活动现金流分别为-0.37亿元、0.02亿元、-0.16亿元、-0.6亿元。
分产品来看,2019年PCB系列实现营收1.92亿元,占比95.14%;泛半导体系列实现营收0.02亿元,占比1.04%;其他实现营收0.08亿元,占比3.82%。
2019年公司前五大客户实现营收1.13亿元,占比55.89%,其中第一大客户实现营收7231.94万元,占比35.76%。
三、核心指标
2017-2020年,毛利率18年提高至高点58.78%,随后逐年下降至43.41%;期间费用率由49.90%下降至11.38%,其中销售费用率由25.49%下降至5.87%,管理费用率由26.68%下降至5.34%,财务费用率由-2.27%上涨至0.17%;利润率由-30.87%提高至19年高点23.55%,20年下降至22.91%,加权ROE由-16.80%提高至19年高点29.04%,20年下降至19.05%。
四、杜邦分析
净资产收益率=利润率*资产周转率*权益乘数
由图和数据可知,净资产收益率的提高主要是由于利润率的提高。
五、研发支出
2017-2020H1公司研发费用分别为791.80 万元、1,698.10 万元、2,854.95 万元和 2,015.02 万元,占当年度营业收入的比例分别为 35.70%、19.45%、14.12%和 26.55%。
看点:
PCB 及泛半导体设备市场需求的快速增长以及国内巨大的进口替代市场空间。
自中兴、华为事件发生后集成电路的地位不断提升, 社会 与资本对集成电路产业的认识也不断加深。发展集成电路产业的初衷确实是为了实现国产替代、自主可控,虽然这种思路没错但格局着实有点狭隘。当然如果将中国集成电路产业放到实现国家战略安全的地位,对产业的认识也会更深刻一些。
顶层设计的确瞄向了国家战略安全这一方向,但落脚到这个产业中,产业和资本的高度还是无法达成统一,因为各自的诉求不同。以中微公司创始人尹志尧为代表的产业从业者固然可以做到十年磨一剑,将刻蚀设备做到全球一线水平,但狂热资本的不断涌入,更多的是看到科创板、注册制等的实施带来的短期套利空间,毕竟相比以往如今上市的门槛和难度大幅降低。
集成电路是一个技术密集型、知识密集型和资本密集型的产业,如果放到国产替代和国家安全的角度还是一个政策密集型的产业,如果将这四种重要的要素实现深度整合,当然是最理想的状态,但如果这四种要素中任何一个对集成电路产业的理解与认知出现偏差甚至误区,则会出现很大的问题,20年前的"汉芯一号"造假事件如此,武汉弘芯项目烂尾也是如此。
武汉弘芯一开始就对这个行业的理解有所误区,比如一开始就定下的不切实际的目标。武汉弘芯项目原计划投资1280亿元,主要投资目标是建成一条月产能3万片的14nm逻辑工艺生产线、月产能3万片的7nm及以下逻辑工艺生产线以及相应的晶圆级先进封装生产线,但在2017年国内最好的晶圆代工厂中芯国际刚搞定28nm HKMG工艺不久,直到2019年才在梁孟松的带领下搞定了14nm FinFET工艺。
2017年全球晶圆厂中有能力量产14nm及以下FinFET工艺的也就台积电、英特尔、三星和格芯,其中台积电和三星将技术节点推进到10nm,格芯是12nm,英特尔是14nm++ FinFET工艺,与格芯的12nm相当:
行业龙头也刚推进到14-10nm,武汉弘芯一开始就要上马14nm,就当是国内集成电路的产业基础,可能吗?
2017年国内技术达不到,资本目的不纯,政府对集成电路产业认知较浅,武汉弘芯项目如何推进?
可惜了蒋尚义的一腔热血。
武汉的集成电路产业基础还是相当薄弱,更没法与江苏和上海这两个产业集聚地相比,将之比喻为荒漠中的绿洲也不为过。
按申万行业分类,目前在A股上市的湖北半导体企业有盈方微和台基股份两家,其中台基股份主要从事大功率半导体器件的生产与销售,是一家功率半导体企业。但盈方微在湖北荆州,台基股份在湖北襄阳,均不在武汉。
在新三板上挂牌的湖北半导体企业是思存 科技 (839113.OC),公司主要研发与销售多种类别的Wi-Fi模块及相关解决方案。公司在技术上得到高通的支持, 2019年营收与净利润分别达到2.50亿元和0.08亿元,业务规模与盈利能力较弱。
东芯通信(430670)是位于合肥市的一家从事LTE基带芯片研发、销售及提供解决方案的供应商,但目前由于4G网络已经成为过去,公司业绩也一落千丈,2019年营收仅有0.15亿元,净利润亏损0.12亿元,已经连续四年亏损。
过去的终究要过去。
在光模块及光芯片领域武汉具有一定优势,光迅 科技 、华工 科技 具有较强的技术实力,其中光迅 科技 是国内少有的业务涉及光芯片、光器件和光模块产业链的企业,而且公司依靠大股东烽火集团旗下的烽火 科技 ,产品可以很好的切入终端。但是在目前火热的高通量光模块领域公司相比中际旭创和新易盛有所滞后,相比已经研发出1000G光模块的华为以及Finisar等国外巨头差距更是明显:
合肥与武汉在存储器领域的竞争优势相当明显。武汉长江存储在3D NAND领域已经形成一定规模,技术上4月份推出的X2-6070是业内首款128层QLC规格的3D NAND,拥有业内已知型号产品中最高单位面积存储密度、最高I/O传输速度和最高单颗NAND闪存芯片容量的存储器件。技术上与海力士、三星、铠侠等差距也就1-2代,如果公司能及时推出196层甚至256层3D NAND,技术上的差距已经相当小了。另外武汉新芯(XMC)除了Nor Flash等存储器件,自有晶圆厂也可以为客户提供55nm制程的低功耗逻辑和射频等工艺。
在DRAM领域合肥长鑫实现了重大突破,公司现有产品主要有DDR4内存芯片、LPDDR4X和DDR4模组,而且在中低端消费电子领域实现商业化。不过目前三星、海力士等已经将技术延伸到DDR5,在技术上还有一代的差距。
在半导体设备领域领域,武汉精测电子和合肥芯碁微是具有代表性的企业。精测电子是从事TFT-LCD/OLED等平面显示信号测试技术研发、开发、生产与销售的企业,在平面显示信号测试领域位于国内领先水平。不过公司目前将业务向半导体检测延伸,未来公司有望形成平面显示+集成电路检测双主业格局。
合肥芯碁微主要从事以微纳直写光刻技术为核心的直接成像设备及直写光刻设备研发、制造及销售,但目前公司的直写光刻机主要用于PCB,在平面显示领域有一定布局。由于技术自身局限,合肥芯碁微的直接成像技术还不能很好的应用于硅基半导体器件深亚微米节点的制造。
综上所述,从目前集成电路产业布局来看,除了长江存储和合肥长鑫的存储器件,武汉和合肥的集成电路产业发展水平总体逊于江苏和上海,但以光迅 科技 为代表的光模块企业、以精测电子、合肥芯碁微为代表的设备制造企业在个别领域具有一定规模。
除了合肥长鑫,合肥的集成电路产业亮点不多,但如果从产业链布局来看,合肥的产业基础要略好于武汉。
集成电路产业链主要分为设计、制造和封测,目前武汉和合肥在设计领域存在明显短板。武汉昊昱微电子是从事功率半导体及模拟半导体设计的企业,公司基于CMOS、BiCMOS、BCDMOS等工艺开发了HYM533低功耗8位四路DAC、音频功放IC等器件;合肥比较具有代表性的设计企业有合肥芯谷微电子、合肥恒烁半导体等设计企业,而且这些企业由"最牛风投机构"合肥市政府投资,部分设计企业颇具特色,但相比圣邦股份、兆易创新等企业,差距太明显。
在封测领域合肥的基础要好得多,而武汉则一片空白。封测领域合肥目前拥有合肥合晶和合肥速芯两家封测企业,其中成立于2000年的合肥合晶覆盖TO、SOT和DIP封装技术;成立于2018年12月的合肥速芯是集成电路行业咨询公司摩尔精英旗下封测企业,拥有QFN、BGA、SiP等封装技术:
当然合肥速芯的竞争力还来自于摩尔精英在集成电路行业中的资源整合能力,这一点可能是合肥合晶所不拥有的。
在制造领域武汉和合肥均有晶圆厂,其中合肥长鑫和长江存储各有一座300mm晶圆厂,主要是这两家企业均采用了IDM模式,这也是三星和海力士等存储器龙头的典型模式。除此以外PowerChip和XMC(武汉新芯)分别在合肥和武汉拥有一座300mm晶圆厂,产能较小,而且主要以成熟节点为主。
合肥集成电路产业的优势是打通了设计、制造和封测,武汉虽然有武汉新芯这样的晶圆代工厂,但封测还有短板。
当然在光模块等领域武汉有独特的竞争优势。
有人曾将中国半导体投资者归纳为无知者无畏型、无耻者无畏型和既无知又无耻型三类,其中无知者无畏型主要是地方政府,出于各种目的往往会出现"义和团"式的"造芯运动",典型代表就是武汉弘芯这个烂尾项目。无耻者无畏型主要是产业内企业"杠杆"式的"堵芯",怀着撞大运的心理借着主业的成功赌博式发展集成电路这个副业。既无知又无耻型就是那些暴躁狂热的资本,他们对产业规律视而不见,搞跨界投机式的"骗芯"。
一级市场如此,二级市场同样炒作投机之风盛行,最典型的就是中芯国际上市前后的炒作以及半导体板块的暴涨暴跌,让一众投资者吃了闷瘪。
集成电路行业是一个大投资、重积累、长周期、慢回报和高风险的行业,科创板和注册制的推出只是解决了一个资本顺利退出的通道,但产业本身特征是无法在资本加持下能改变的,如果只是抱着投机甚至赌或骗的心态闷头扎入集成电路行业,可能自己怎么没的都不知道。
65nm制程的SoC芯片设计及流片成本2850万美元,16nm的设计及流片费用高达1.06亿美元,足可以让很多中小型设计企业倒闭好多次了。
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