可以通过控制半导体的掺杂浓度来控制半导体的电阻率;
可以通过减少晶体缺陷(如退火等)和减少重金属杂质的污染来提高半导体的少子寿命;可以通过在半导体中掺入深能级杂质来降低半导体的少子寿命。
硅的原子密度为5*10^22cm-3,掺入1%的As后,若杂质全部电离,则室温下载流子浓度为:多数载流子(电子)n=5*10^22cm-3*1%=5*10^20cm-3
少数载流子(空穴)p=ni^2/n=0.45cm-3
欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
可以通过控制半导体的掺杂浓度来控制半导体的电阻率;
可以通过减少晶体缺陷(如退火等)和减少重金属杂质的污染来提高半导体的少子寿命;可以通过在半导体中掺入深能级杂质来降低半导体的少子寿命。
硅的原子密度为5*10^22cm-3,掺入1%的As后,若杂质全部电离,则室温下载流子浓度为:多数载流子(电子)n=5*10^22cm-3*1%=5*10^20cm-3
少数载流子(空穴)p=ni^2/n=0.45cm-3
欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
评论列表(0条)