研磨液的作用有哪些

研磨液少量滴入滚筒内被水搅匀后，在光整时会粘附在零件与磨料的表面，其作用如下： ①软化作用：即对金属表面氧化膜的化学作用，使其软化，易于从表面研磨除去，以提高研磨效率。 ②润滑作用：象研磨润滑油一样，在研磨块和金属零件之间起润滑作用，从而得到光洁的表面。 ③洗涤作用：像洗涤剂一样，能除去金属零件表面的油污。 ④防锈作用：研磨加工后的零件，未清洗前在短时间内具有一定的防锈作用。 ⑤缓冲作用：在光整加工运转中，与水一起搅动，会缓解零件之间的相互撞击。油剂研磨液由航空汽油、煤油、变压器油及各种植物油、动物油及烃类，配以若干添加剂组成。

惠州市博罗县三邦化工公司是专业生产各种金属研磨液光亮剂的生产厂家07526880206 13510110198 万华平 产品说明：本产品能提高磨削效率，减少磨具的磨损。对工作有保护及润滑作用，提高工件表面光洁度和光亮度。根据各种材质的工件滚抛需要，研制成不同的磨液，供用户自行选择。研磨液作用与使用方法1、研磨液、水的添加量 研磨液的添加量是根据水质和产生切削屑来决定的，水质硬切削量多，则研磨液的添加量应多些。由于离心式研磨机在相同的时间内切屑量多，所以研磨液的添加量应多些。在一般情况下，螺旋振动研磨机研磨液的添加量占研磨槽内容积6-10%，则每次研磨加60-100克，而30L离心式研磨机，每只滚筒容积只有7.5升，容积利用率55%，每只滚筒加20克，光泽光整时适量增加些。水在工件表面光整中有缓冲、清洗的作用。水的添加量多，缓冲作用大，工件变形减小，且能降低工件表面粗糙度。螺旋振动式研磨机水的添加量占容积3-5%。离心式研磨机水的添加量在混合物面上4-5厘米即可。2、研磨液的作用 研磨液少量滴入滚筒内被水搅匀后，在光整时会粘附在零件与磨料的表面，其作用如下：①软化作用：即对金属表面氧化膜的化学作用，使其软化，易于从表面研磨除去，以提高研磨效率。②润滑作用：象研磨润滑油一样，在研磨块和金属零件之间起润滑作用，从而得到光洁的表面。③洗涤作用：像洗涤剂一样，能除去金属零件表面的油污。④防锈作用：研磨加工后的零件，未清洗前在短时间内具有一定的防锈作用。⑤缓冲作用：在光整加工运转中，与水一起搅动，会缓解零件之间的相互撞击

研磨抛光是半导体加工过程中的一项重要工艺， 主要应用于半导体表面进行加工， 研磨液、抛光液是影响半导体表面质量的重要因素。

研磨是半导体加工过程中的一项重要工艺， 它主要是应用化学研磨液混配磨料的方式对半导体表面进行精密加工， 这种化学研磨工艺几乎涉及到半导体制程中的各个环节， 研磨液是影响半导体表面质量的重要因素。

对于研磨工件产品，品种多；可选择不同程度效果的氧化铝研磨液，研磨速度快可减省研磨时间，提高生产效率，作业后工件表面比较平滑。

加油或者加水稀释使用，有效，方便，无污染，不腐蚀等特点。其中金刚石颗粒硬度好，粒度均匀，磨削效果好。

用于在蓝宝石衬底的研磨和减薄的研磨液，蓝宝石研磨液利用聚晶金刚石的特性，在研磨抛光过程中保持高切削的效率，同时不易对工件产生划伤。

（1）切力较稳定，性价比高；

（2）铝为电和热的良导体，而氧化铝则是电与热的绝缘体；

（3）具有良好的研磨稳定效果；

（4）品种多，可以进行粗磨和细磨，视半导体材质而定；

（5）适用作为Inp、GaAs半导体的研磨液。

  分散稳定性不好、易团聚、易沉淀。

（1）金刚石磨料是研磨硬质合金、陶瓷、宝石、光学玻璃等高硬度材料的理想原料；

（2）蓝宝石研磨液是蓝宝石衬底的研磨和减薄、光学晶体、硬质玻璃和晶体、超硬陶瓷和合金、刺头、硬盘、芯片领域的研磨；

（3）不适用于Inp、GaAs。

CMP抛光液( chemical mechanical polishing化学机械抛光，简称CMP)是平坦化精密加工工艺中超细固体研磨材料和化学添加剂的混合物，CMP抛光液一般由提供研磨作用的超细固体粒子如纳米级SiO2、Al2O3粒子等和提供腐蚀溶解作用的表面活性剂、稳定剂、氧化剂等组成。

广泛用于各类集成电路、半导体、蓝宝石、LED行业及其他领域的抛光过程，用来辅助抛光、保护硅片等材料免受划伤，因此在芯片的制备过程中是离不开它的。

①.氧化铝抛光液：晶向稳定、硬度高、颗粒小且分布均匀；磨削力强、抛光速率快、镜面效果好；抛光液不易沉淀。

②. 氧化硅抛光液：

（1）分散性好。

（2）粒径分布广泛：5-100nm。

（3）适合与各种抛光垫、合成材料配合抛光使用。

（4）适用硅晶圆、蓝宝石等半导体及衬底材料的粗抛和精抛，抛光后易清洗，表面粗糙度低。

③ 白刚玉抛光液：纯度高、耐酸碱腐蚀、耐高温、热态性能稳定它硬度略高于棕刚玉，韧性稍低，自锐性好、磨削能力强、发热量小、效率高、热稳定性好。

优势在于

（1）氧化铝抛光的抛光速率快、二氧化硅抛光液易清洁。

（2）氧化铝抛光液良好的微粒形状，纯度高、磨削力强，表面粗糙度5-15nm。

（3）二氧化硅抛光液表面粗糙度低，而且抛光后易清洗，适用于二次抛光解决脏污。

（4）如图下氧化铝抛光液结合二氧化硅抛光液的效果图。

劣势在于： 氧化铝抛光液异常多，比如橘皮现象、表面出现白点现象；二氧化硅抛光液抛光过程中易产生结晶，对硬底材料抛光速率低。

白刚玉微粉可用做触媒体，绝缘体以及精密铸造砂等。

不积珪步，无以至千里；不积细流，无以成江海。做好每一份工作，都需要坚持不懈的学习。

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