关于管道中流体的一些代码是什么意思？如LSW，GEX，SEX，VEX，AEX，PV

#P#半导体厂务制程排气系统半导体厂务系统，大都可区分仪电(69KV变电所及11.4KV变电站系统、480 / 277 / 120V系统、发电机系统、PC / CV系统、空压机系统、FMCS系统、电话系统、门禁系统)、系统工程(纯水系统、PCW系统、City Water系统、废水处理系统、气体供应系统、化学供应系统)、机械工程(洁净系统、Chiller &Hot water系统、废气处理 / 排气系统)、装机专案(给水 / 排水配管、气体 / 排气配管、真空配管、电力配线、厂商管理系统)、厂区服务(一般水电维护、土木及装潢、景观园艺、TPM预防保养)。今就其废气处理及排气系统加以说明如下。在半导体生产环境中，不同的设备机台会产生不尽相同的化学性废气，虽然部份设备机台本身有前废气处理设备，仍然不能避免处理设备失效之问题。另外晶片生产制程中也使用了大量的易燃溶剂与化学品，因此必须将它们做有效的分类与处理，以避免在管路中因二度化学反应产生危险，并降低废气排放及符合环境法规要求， 因此废气排放处理系统在此就扮演著很重要的角色。废气排放处理系统(Air Abatement System，简称AAS)，其排气管路可区分为General Exhaust System (GEX)、Scrubber Exhaust System (SEX)、Ammonia Exhaust System (AEX)、VOC Exhaust System (VEX)。General Exhaust System (GEX)生产过程机台本身会产生热源、particle与无害气体，但考虑无尘室空调与过滤装置负荷，及生产环境温度的舒适性，因此将此废气以一般风车抽取排放至大气环境，不需做任何处理(图一)。#F#图一：General Exhaust SystemScrubber Exhaust System (SEX)在晶片生产过程中，制程设备会使用大量的化学品，其大都涵盖大量酸性与少量碱性等腐蚀性化质。如果未将此类化学性废气加以处理而排放，则势必会严重冲击我们的环境。 SEX设备主要是一湿式洗涤塔(Scrubber)，利用碱性(NaOH)循环水冲洗制程排放的酸性废气，并藉由酸碱中和原理将排气中性化而不具腐蚀性，而排气的化学物质经冲洗沉降并定量排放至废水处理场做进一步处理(图二)。#F#图二：Scrubber Exhaust SystemAmmonia Exhaust System (AEX)AEX (图三)最主要是处理制程设备所产生的Ammonia (阿摩尼亚，NH3)。处理设备本身主要也是一湿式洗涤塔(Scrubber)，利用酸性(H2SO4)循还水冲洗制程排放中所含有的Ammonia废气，废气中的化学物质NH3经冲洗而溶於循还水中，废气再进入SEX处理，其洗涤塔废水定量排放至废水处理场做进一步处理。 #F#图三：Ammonia Exhaust System而Ammonia 的废气不直接进入SEX处理，乃是Ammonia (NH3)的废气与SEX内的氯与氟根离子(CL-, F-) 产生反应，生成白色的氯化氨或氟化氨(NH4CL, NH4F)粉尘结晶，会造成管路阻塞，环境污染与烟囱排放不透光率不符环保法规要求。VOC Exhaust System (VEX)Volatile organic compounds (VOCs)其特徵和酸碱不同，且较难处理。若未处理直接排至大气环境，会有污染空气，造成空气品质下降之风险。一般来说VEX处理系统主要分为两大部份：(1) ACT 690 Condenser (冷凝器) only for partial equipment；(2)沸石转轮(Zeolite roller)。ACT 690 Condenser主要的功能在於先处理高融点的VOC，以利後段沸石转轮处理其它低融点之VOC(图四)。ACT 690 Condenser组成包括：● Filter：过滤来自设备排放的杂质；● Cooler：一种利用热交换浓缩冷凝气态有机化合物的设备，是以5蚓冰水将部份高融点气态 VOC冷凝下来便於收集处理；● Exchanger：此热交换器是一节能装置，将冷凝後的低温废气再与入口的高温废气先做热交换後，才到cooler再冷凝；● Carbon absorber：ACT 690浓缩後的气态VOC本体有很浓的臭味，因此设有活性碳吸附器carbon absorber去除部份臭味。#f#图四：ACT 690 Condenser

半导体废气处理

废气介绍：由于半导体工艺对 *** 作室清洁度要求极高，通常使用风机抽取工艺过程中挥发的各类废气，因此半导体行业废气排放具有排气量大、排放浓度小的特点。废气排放也以挥发为主。这些废气主要可以分为四类：酸性废气、碱性废气、有机废气和有毒废气。

废气危害：半导体制造工艺中产生的废气如果没有经过很好的处理进行排放，将造成严重的问题，不仅影响人们的身体健康，恶化大气环境，造成环境污染的公害事件等，也会成为半导体制造中AMC污染的重要来源。

处理方法：依据这些废气的特性，在处理上采用水洗、氧化/燃烧、吸附、解离、冷凝等方法，针对不同污染物，可采取以下综合处理方法：1.一般排气系统 2.酸性、碱性废气处理系统 3.有机废气处理系统

√ 楼主您好，根据您提出的问题，下面为您做详细解答：

半导体行业中使用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有大量有机物成分，在工艺过程中，这些有机溶剂大部分通过挥发成为废气排放。其废气的主体是VOCs，同时废气中还混合了HCl、氨、HF等危险污染物。

半导体有机废气处理办法

采用RTO设备处理

RTO蓄热式氧化炉是在高温下将可燃废气氧化成氧化物和水，净化废气，并回收废气分解时所释放出来的热量，废气分解效率达到99%以上，热回收效率达到95%以上。

直接燃烧法处理

有机废气风管废气收集→沸石转轮吸附浓缩→直燃炉（TO）→烟囱排气达标排放。

希望此次回答对您有所帮助！

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