三五族半导体发展的背景

硅、氮化镓。第一代就是我们说的硅，是比较成熟的；第二代主要是以氮化镓和InP，我之前也从事了很多年砷化镓和银铃的工作；第三代主要是基于大功率应用、高压、高射频应用的，比如像氮化镓和碳化硅的产品。通常所说的III-V半导体是由上述IIIA族和VA族元素组成的两元化合物，它们的成分化学比都是1：1。

集成电路是制造在半导体上的。是基于PN结理论，金属半导体接触理论，以及MIS结构等发展起来的。它的基本组成元器件是二极管，三极管，MOS管。目前的超大规模集成电路，绝大部分为CMOS集成电路。

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