涂层膜厚测试仪原理

涂层膜厚测试仪原理,第1张

涂层膜厚测试仪被广泛应用于测量从0.1到50微米各种薄膜材料的厚度。无论单层或多层薄膜,简单的球磨测试都能快速准确的测定每一层薄膜的厚度。典型的试样包括CVD、 PVD、等离子喷射涂层、阳极氧化薄膜、离子溅射薄膜、化学和电镀沉积镀膜、高分子薄膜、涂料、釉漆等等。

原理:一个半径精确已知的磨球由自身重力作用于镀膜试样表面并进行自转。在测试过程中,磨球与试样的相对位置以及施加于试样的压力保持恒定。磨球与试样间的相对运动以及金刚石颗粒研磨液的共同作用将试样表面磨损出一球冠形凹坑。 随后的金相显微镜观测可以获得磨损坑内涂层和基体部分投影面积的几何参数。在得知了X和Y的长度后,涂层的厚度D可以通过简单的几何公式计算得出。

对涂层厚度的检测将有利于有效控制薄膜各层的厚度均匀性,但对于多层薄膜若想精确测量每一涂层的厚度,在相应的厚度检测设备上就需要有非常大的投资,并随着薄膜层数的增长而加大,给企业带来较大的经济负担。比较经济的方式是对部分价格昂贵的涂层材料进行涂层厚度的检测,同时加强对薄膜整体厚度的测试以达到有效控制其他各层材料厚度均匀性的作用。

对于薄膜厚度测量,深圳大成精密一直持续加大研发投入和不断致力于技术创新。大成精密光学干涉测厚仪专为透明薄膜开发的光学干涉测厚仪能够良好地实现单层或多层透明薄膜的厚度测量。精度极其高,应用甚广,尤其适合厚度要求达到纳米级的透明多层物体的厚度测量。


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