半导体litho和etch区别

区别在于工艺研发不同。

etch意思是干法刻蚀，lithography，litho，photo都指光刻。etch只负责etch工艺研发，litho只负责litho工艺研发。工艺部门最好的是litho第二是etch。

一般半导体研发中litho在前，etch在后。litho曝光完成对图案的传递后，再利用etch蚀刻技术把图案转移到光刻胶下面的film中。

是的。Etch是半导体制造工艺，微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。工艺工程师是很累的，算是所有制程里最累的之一，每年离职率都高。是与光刻相联系的图形化处理的一种主要工艺。

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