真空腔体的内壁表面吸附大量的气体分子或其他有机物,成为影响真空度的放气源。为实现超高真空,要对腔体进行150—250℃的高温烘烤,以促使材料表面和内部的气体尽快放出。烘烤方式有在腔体外壁缠绕加热带、在腔体外壁固定铠装加热丝或直接将腔体置于烘烤帐篷中。
蚀刻机主要应用于航空、机械、标牌工业中,可对各种金属和金属制品的表面蚀刻图纹、花纹、几何形状,并能精确镂空,也可对不锈钢进行蚀刻和薄板切割,特别在半导体制程上,蚀刻更是不可或缺的技术。蚀刻指的是通过曝光制版、显影后,将要蚀刻区域的保护膜去除,在蚀刻时接触化学溶液,达到溶解腐蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果。蚀刻机是在芯片生产的过程中所必须使用的一种设备,这种设备的作用就好像是雕刻中的刻刀一样,把一块完整的金属板中不需要的部分给去除掉,剩下的就是需要的电路了。
生产芯片主要用到两种机械,就是光刻机和蚀刻机,光刻机把电路图投影到覆盖有光刻胶的硅片上面,光刻的过程就是制作好的硅圆表面涂上一层光刻胶,接下来通过光线透过掩膜照射到硅圆表面,因为光刻胶的覆盖,照射到的部分被腐蚀掉,没有光照的部分被留下来,这部分便是需要的电路结构。然后蚀刻机把画了电路图的硅片上的多余电路图腐蚀掉,剩下的便是电路结构了。
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