拓荆科技登陆科创板，系河南资产参投的第二家半导体上市公司

招股书披露，拓荆 科技 成立于2010年，主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。该公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。拓荆 科技 是国内唯一一家能够产业化应用离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、次常压化学气相沉积（SACVD）设备的厂商，也是国内领先的原子层沉积（ALD）设备厂商。

目前拓荆 科技 的产品已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，并已展开10nm及以下制程产品验证测试，主要客户包括中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储等国内主流晶圆厂。2019年以来，拓荆 科技 前五大客户主营业务销售金额占当期主营业务收入的比重超过90%，大客户较为集中。

公开资料显示，2018年4月，河南资产通过设立嘉兴君鹏投资合伙企业（有限合伙）投资中微半导体设备（上海）有限公司（简称中微半导体），持有其408.77万股股份。2019年6月20日，中微半导体首次公开发行股票通过上交所科创板股票上市委员会审核。

为推动产业升级，河南资产通过旗下基金公司聚焦高精尖的半导体行业，先后联合国内投资机构布局中微半导体、拓荆 科技 等国内龙头企业，以及麦斯克电子、中科慧远等河南优质企业共16家，并与部分省辖市合作推动相关产业在河南省内落地。

截至目前，河南资产参与投资的半导体企业中已有2家上市、1家通过上交所科创板上市委员会审核、1家创业板IPO获受理。

责编:陈玉尧 | 审核:李震 | 总监:万军伟

2021年11月5日，拓荆科技股份有限公司科创板IPO已提交注册，上市时间还在等待中。

【拓展资料】

拓荆科技股份有限公司（以下简称“拓荆公司”或“公司”）成立于2010年4月，于2021年1月12日整体变更为股份有限公司。公司总部位于辽宁省沈阳市浑南区，并在北京、上海、海宁成立三家子公司。公司主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。公司多次承担国家重大科技专项，被中国半导体行业协会评为2016年度、2017年度、2019年度“中国半导体设备五强企业”。

公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，技术指标达到国际同类产品先进水平，产品主要应用于集成电路晶圆制造，以及TSV封装、光波导、Micro-LED、OLED显示等高端技术领域。目前，公司研发的PECVD、ALD及SACVD设备系列化产品已累计发货超150台，客户端总流片量突破1500万片。公司产品获得两届中国集成电路创新联盟的IC技术创新奖、辽宁省科技进步一等奖等荣誉。

公司现有十余名海外高层次专家，结合国内优秀人才，形成了一支国际化的专业团队，具备高科技研发实力及管理经验，截至2021年6月30日，公司员工总数超350人（含子公司）。通过多年技术积累，公司已形成自主知识产权体系，截至2021年6月30日，累计获授权专利超160项，被国家知识产权局评为“国家知识产权示范企业(2019-2022)”。

公司总部占地80亩、总建筑面积达40，000平方米，拥有现代化办公大楼及高等级洁净厂房、先进和完备的无尘实验室及系列高端薄膜实验设备，用以研制和生产科技领先的半导体薄膜设备。公司产业化基地第一期生产能力可实现年产100台套，全部投产可达350台套设备，可以满足下游客户增产需求。

公司拥有覆盖全球的供应商网络，并在北京、上海、武汉、合肥、天津、台湾等20多个地区的近40条生产线都设有技术服务中心，可为客户提供每周7天，每天24小时的技术服务。公司运营管理体系已通过ISO9001、ISO14001、ISO45001体系的认证。

公司愿与业界伙伴建立真诚、友好、共赢的产业合作联盟，共同为中国及世界半导体产业的发展做出贡献。

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