请问半导体工艺废气如何处理？

半导体废气处理废气介绍：由于半导体工艺对 *** 作室清洁度要求极高，通常使用风机抽取工艺过程中挥发的各类废气，因此半导体行业废气排放具有排气量大、排放浓度小的特点。废气排放也以挥发为主。这些废气主要可以分为四类：酸性废气、碱性废气、有机废气和有毒废气。废气危害：半导体制造工艺中产生的废气如果没有经过很好的处理进行排放，将造成严重的问题，不仅影响人们的身体健康，恶化大气环境，造成环境污染的公害事件等，也会成为半导体制造中AMC污染的重要来源。处理方法：依据这些废气的特性，在处理上采用水洗、氧化/燃烧、吸附、解离、冷凝等方法，针对不同污染物，可采取以下综合处理方法：1.一般排气系统 2.酸性、碱性废气处理系统 3.有机废气处理系统

在高温下将可燃废气氧化成对应的氧化物和水，从而净化废气。

RTO处理有机废气的原理是在高温下将可燃废气氧化成对应的氧化物和水，从而净化废气，并回收废气分解时所释放出来的热量，废气分解效率打到99%以上，热回收效率达到95%以上。

RTO主体结构由燃烧室、陶瓷填料床和切换阀等组成。根据客户实际需求，选择不同的热能回收方式和切换阀方式。

扩展资料

废气处理设备功率较大、风量较大、效果较好。工业废气处理要区别民用场所空气净化。工业废气处理要能有效去除工厂车间产生的苯、甲苯、二甲苯，醋酸乙酯，丙酮丁酮，乙醇，丙烯酸，甲醛等有机废气，硫化氢，二氧化硫，氨等酸碱废气处理。

废气的种类颇多，因此针对相应的工业废气，采用科创技术，进行技术的的组合与拆分，能够更好更高效的对污染物进行去除。例如低温等离子技术与UV光解净化的组合、转轮浓缩和高温等离子体焚烧技术的组合。

以低温等离子技术与UV光解净化的组合为例，这两种方法的协同运作，使其工作区域相互融合，增强了电子的二次激发，形成场强加强区，放大了各自的降解效率，使污染物降解完全。

参考资料来源：百度百科--有机废气处理

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