半导体材料专家、中国工程院院士、中国科学院半导体所研究员梁骏吾,因病医治无效,于2022年6月23日在北京逝世,享年89岁。
梁骏吾,1933年9月18日出生,湖北武汉人。1955年毕业于武汉大学,1956年至1960年在苏联科学院莫斯科巴依可夫冶金研究所攻读副博士学位,1960年获技术科学副博士学位。1997年当选为中国工程院院士。曾任中国电子学会半电子材料学分会主任、名誉主任。
梁骏吾是我国从事硅材料研究的元老级专家,在20世纪60年代解决了高纯区熔硅的关键技术。1964年制备出室温激光器用GaAs 液相外延材料。1979年研制成功为大规模集成电路用的无位错、无旋涡、低微缺陷、低碳、可控氧量的优质硅区熔单晶。上世纪80年代首创了掺氮中子嬗变硅单晶,解决了硅片的完整性和均匀性的问题。90年代初研究MOCVD生长超晶格量子阱材料,在晶体完整性、电学性能和超晶格结构控制方面,将中国超晶格量子阱材料推进到实用水平。
梁骏吾一生与半导体材料科研事业相伴,他曾在采访中说,希望通过自己的科研经历,带给年轻科研人员一些启发,让他们看到这份事业可以有所作为,让他们觉得自己同样能够作出成绩。
每年召开的“中国电子材料行业半导体材料分会年会”上,梁骏吾是不可或缺的重量级嘉宾,他的学术报告往往成为行业技术发展的重要参考和指南。
作为从事硅材料研究的元老级专家,梁骏吾被认为是中国半导体材料领域内一位“真正的大侠”,其威望自然举足轻重。
发布讣告根据媒体的报道来看,在2022年6月23日的时候,中科院半导体所发布讣告:中国工程院院士、中国科学院半导体研究所研究员、我国著名半导体材料学家梁骏吾先生因病医治无效 在北京逝世,享年89岁。消息一出,梁骏吾院士生前的同事朋友以及一众网友们纷纷在社交平台上表示哀悼,说为我国曾有这样一位伟大的半导体材料专家而感到骄傲与自豪,为他的离开而感到遗憾。
科研成就梁骏吾于1955年从武汉大学物理专业毕业后,前往前苏联留学并获得了副博士的学位后,回国担任了中国科学院半导体研究所副室主任,后一直在为高纯硅研制工作而努力,并获得了1964年国家科委颁发的国家科技成果二等奖,由他研制的硅无坩埚区熔提纯设备获了1964年国家科委全国新产品二等奖。在1965年的时候他首次研制成功了中国国内第一只室温脉冲相干激光器用的砷化镓外延材料,为后续的发展奠定了坚实的基础。在20世纪80年代的时候他首创了掺氮中子嬗变区熔硅单晶,获得了1988年中科院科技进步一等奖,完成了硅中杂质以及外延中气体动力学与热力学耦合计算及微机控制光加热外延炉。
多项荣誉纵观梁骏吾院士的一生,可以看到他为我国的半导体材料的研制和发展付出了毕生的精力和心血,在他从事半导体材料科学研究工作这六十多年里面,他获得了多项荣誉,如1992年的时候获得了国家级有突出贡献中青年专家称号,在1997年的时候被评为中国工程院院士,先后荣获国家科委科技成果二等奖和新产品二等奖各1次,国家科技进步三等奖1次、中科院重大成果和科技进步一等奖3次、二等奖4次,上海市科技进步二等奖1次等各种科技奖共20余次。
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