一般TFT上的电路 回路线 都是用正性光刻胶,CF板上的 BM,R、G、B 用的是负性光刻胶,当然不是绝对的,怎么用也要看PR的特性和功能能力,设备情况等等从而决定使用哪一种
离子注入后退火:加热注入硅片,修复晶格损伤,使杂质原子移动到晶格点,将其激活。高温退火和快速热处理相比,快速热处理更优越。
因为快速热处理可以避免长时间的高温导致杂质扩散,以及减小瞬间增强扩散。
欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
一般TFT上的电路 回路线 都是用正性光刻胶,CF板上的 BM,R、G、B 用的是负性光刻胶,当然不是绝对的,怎么用也要看PR的特性和功能能力,设备情况等等从而决定使用哪一种
离子注入后退火:加热注入硅片,修复晶格损伤,使杂质原子移动到晶格点,将其激活。高温退火和快速热处理相比,快速热处理更优越。
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