NPN型三极管的发射区是N型半导体,集电区也是N型半导体,基区是P半导体。
颖展电子元器件上有详细说明。
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磁场是可以激发半导体材料产生空穴的,但自由电子和空穴必须成对产生。条件是:1,半导体材料在磁场中运动,方向为垂直于磁力线方向;
2,磁场足够强或半导体材料运动足够快。
实际上,半导体材料在强电场或磁场的洛伦兹力作用下“产生”自由电子和空穴的过程就是它的击穿过程,因为这是个雪崩过程,速度快而不可控。
这个问题需要根据不同情况来考虑首先是处于低温弱电离区0~100k的区间,这个区间内半导体的本征激发很小,p型半导体内部的空穴主要由三族元素电离产生,本征激发可忽略不计,随着温度升高,杂质的电离率快速增大,电离的空穴快速增加,因此在这个区间温度升高p型半导体中增多的主要是空穴浓度。温度继续升高来到了100~500k区间,在这个区间中轻掺的杂质基本已经全部电离,因此随着温度升高电离空穴浓度基本不发生变化,而在这个温度区间半导体的本征激发还是很小,因此可以忽略不计,因此在强电离区,随着温度的升高多少载流子(空穴)的浓度基本不发生变化。最后是T>500k的区间,此时本征激发的电子和空穴浓度迅速上升,占据主要地位,随着温度的升高,电子和空穴的浓度都迅速增大欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
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