体积缩小和器件速度提高,日益需要在生产过程中实现新的参数测试功能,而过去只有在实验室中才需要这些功能。Agilent 4075和4076为精确检定新的器件结构提供了所需的灵活性,如超薄栅氧化物MOSFET (金属氧化物半导体场效应晶体管)或通信应用中使用的高速半导体器件。通过先进的设计,Agilent 4075和4076支持10-ns短脉冲式IV测量,对热量或电荷异常灵敏的器件必需进行此类测量,如高速逻辑应用中使用的SOI晶体管和高介电常数晶体管。此外,Agilent 4076支持直到1 fA的超低电流测量功能。
“Agilent 4075和4076使广大客户能够高效检定使用65 nm工艺技术制造的先进器件,从而加快器件开发周期,改善产出。”安捷伦Hachioji半导体测试分部副总裁兼总经理Minoru Ebihara说,“由于高频脉冲式测量功能,这些系统有助于正确检定对热量灵敏的器件。”
与整个4070系列一样,Agilent 4075和4076支持300 mm SECS/GEM自动化协议,这些协议已经在世界各地的生产线中得到验证。SECS/GEM是半导体行业的标准,保证制造设备共享一致的界面和行为。
现代超薄栅MOSFET容易受到电子隧道的影响。为检定其电容和电压(CV)行为特点,测量频率必需超过几兆赫。但是,高频CV (HFCV)及实现检定必需的射频频率CV (RFCV)测量技术之间相互抵触。Agilent 4075和4076同时支持HFCV (4294A)仪器和RFCV (ENA/PNA)仪器,使得用户能够选择最佳方法,满足自己的工艺技术和生产测试需求。
Agilent 4075和4076都把高速电容测量单元(CMU)集成到测试头中。这一功能可以在1 kHz - 2 MHz频率范围内,对层间/层内氧化物非常快速地进行电容测量,从而改善吞吐量,降低测试成本。
通信应用和高速逻辑应用要求深入检定高速半导体器件的性能。Agilent 4075与4076皆支持利用PNA进行RF的S参数测试功能,相对于目前市面上使用VNA的解决方案,以PNA为主的RF解决方案可提供更高的产出速度。
诸如SOI或高k等最新的先进技术需要超短的脉冲测试能力,以防止产生有害的热量或电荷敏感效应。然而,生产测试系统的脉冲式测量能力却只限于测量微秒的范围。Agilent 4075与4076可提供短至10纳秒的超短脉冲式IV测量能力,能有效地测量SOI或高k晶体管等对热或电荷高度敏感组件的特性。
Agilent 4076还为生产测试提供了实验室测试功能。高级工艺通常要求在生产中精确测量各种参数,如MOSFET低于门限的泄漏电流和铜(Cu)金属Van der Paw电阻。这些测量要求异常精确的电流和电压测量分辨率,而此前只有实验室中才能提供这种分辨率。
Agilent 4075和4076所有的RF、HFCV和超短脉冲式IV测量功能都可以在整个新设计的直接对接接口上使用。这种直接对接的设计可通过自动化的探针卡更换机制,让使用者轻易地控制和变换探针卡,而且这种RF直接对接的方式也不会减少任何的DC针脚。
诸如测量链接库和校准工具等 *** 作简易、采用图形化使用者接口的软件皆支持这些RF、HFCV和脉冲式IV测量功能。
美日关系好，日本可以得到美国的先进技术，再说日本的科技与制造水平也很高，安捷伦在日本是有工厂的Agilent 7700系列是美国安捷伦公司于2009年6月全球发布的最新型ICPMS，该型号以其体积小型化、软件智能化、超高灵敏度、长期工作可靠性、 *** 作与运行完全自动化等特点迅速成为现代元素分析基础研究实验室和行业实验室的首选仪器。不同于 *** 作和运行异常复杂且体积庞大的传统ICP-MS商品化仪器，该系列产品继承了前两代产品的优良品质，同时加入了众多Agilent 的最新技术和 *** 作软件，以简化仪器 *** 作过程、提高实验室工作效率、增加实验室数据可靠性为目的，Agilent 7700以崭新的设计和性能，应对日益复杂的实验室测试要求，7700具备业内最小的体积、使用功能强大且易用的MassHunter *** 作软件，配备全新升级的八级杆碰撞反应池、高盐进样系统以及RF发生器等性能优异的硬件系统，成功实现高灵敏度、高盐度、高可靠性集一身，真正实现了现代化实验室全自动的常规分析。
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