光刻胶属于什么板块

光刻胶属于半导体板块。

光刻胶是电子领域微细图形加工关键材料之一，是由感光树脂、增感剂和溶剂等主要成分组成的对光敏感的混合液体。在紫外光、深紫外光、电子束、离子束等光照或辐射下，其溶解度发生变化，经适当溶剂处理，溶去可溶性部分，最终得到所需图像。

按显示效果分类，光刻胶可分为正性光刻胶和负性光刻胶。按照曝光波长分类，光刻胶可分为紫外光刻胶（300~450nm）、深紫外光刻胶（160~280nm）、极紫外光刻胶（EUV，13.5nm）、电子束光刻胶、离子束光刻胶、X 射线光刻胶等。

按行业分类，可分为PCB光刻胶、面板光刻胶、半导体光刻胶。目前，中国本土光刻胶以 PCB 用光刻胶为主，平板显示、半导体用光刻胶供应量占比极低，市场炒作以面板显示及半导体这块为主。

光刻胶的应用：

1、液体火箭发动机层板喷注器上金属板片型孔的双面精密加工，以及液体推进器预包装贮箱上的膜片阀金属片刻痕。

2、在金刚石台面上制备金属薄膜电极以及在偏聚二氟乙烯（PVDF）压电薄膜上制备特定尺寸和形状的金电极。

3、制作各种光栅、光子晶体等微纳光学元件。早在80年代中期，Ⅲ~Ⅴ族化合物光电子器件的制备就用到了激光全息光刻技术，其中研究最多的是用全息光刻直接形成分布反馈（DFB）半导体激光器的光栅结构。

4、医用领域还用光刻制造微针和生物芯片等微细医疗器件。

首先我们要了解什么是光刻胶？

光刻胶是一种感光材料，硅片制造中，光刻胶以液态涂在硅片表面，而后干燥成胶膜。光刻机就是利用特殊光线将集成电路映射到硅片表面，而光刻胶的作用就是避免在硅片表面留下痕迹，在半导体材料中技术难度最大。光刻工艺成本占整个芯片制造工艺的35%，耗费时间占整个芯片工艺的40-50%。

然后，我国的光刻胶正面临着怎样的机会和危机？

危机: 光刻胶可细分为三类：半导体光刻胶、LCD光刻胶、PCB光刻胶，其中半导体光刻胶的技术要求最高，但我国目前主要较低端的PCB光刻胶，全球光刻胶的高端核心技术被美国和日本垄断，其中日本占据了全球70%以上的市场份额。未来几年光刻胶市场的年均增长率大约是15%，材料的国产化率有望从5%快速提升至40%。

机会: 新冠疫情使得国内进出口贸易大受影响，日本“封城”导致国内光刻胶供需矛盾增加，国产替代刻不容缓。预计2022年半导体光刻胶市场约55亿，为2019年的两倍；面板光刻胶市场将达105亿。

最后，我们来看看光刻胶概念的部分龙头企业:

1、南大光电（国内领先厂家）

2、容大感光（油墨龙头企业）

3、晶瑞股份（微电子化学品龙头）

4、飞凯材料（液晶材料封装材料龙头）

5、上海新阳（半导体消耗品龙头）

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