半导体的光刻层一般有多少

5nm工艺将euv光罩提升到14—15层。

5纳米将使用第五代FinFET电晶体技术，EUV极紫外光刻技术也提升到10多个光刻层，整体电晶体密度提升84%。

换句话说，以7纳米是每平方公厘9，627万个电晶体计算，则5纳米就将是每平方公里有1.771亿个电晶体。

光罩（英文：Reticle, Mask）：在制作IC的过程中，利用光蚀刻技术，在半导体上形成图型，为将图型复制於晶圆上，必须透过光罩做用的原理。比如冲洗照片时，利用底片将影像复制至相片

套应该是指各种产品 比如LED导光套。。 LED聚光套等等。

系统芯片。先进系统单芯片(SoC)在尺寸上已经到了光罩的极限，因此需要找到创新的解决方案来延续摩尔定律，并且降低功耗、提高效能。光罩，在制作IC的过程中，利用光蚀刻技术，在半导体上形成图型，为将图型复制於晶圆上，必须透过光罩作用的原理。

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