半导体工艺涂完胶为什么不能立马显影

半导体工艺涂完胶不能立马显影是因为需要曝光过程。根据查询相关公开信息显示，光刻工艺是半导体元件制作中的常用工艺，通过在半导体基片(如硅晶圆)表面涂敷一定厚度的光刻胶，然后进行曝光，才能显影，以对基片表面的材料做图形化处理。

这是冲洗照片的一项处理照片的技术: 对照片进行显影，把照片放在水池或液盆中显影。 首先，曝光后马上把曝光过的相纸浸泡在水中，之后排干多余的水，用大块的吸水性棉条或3-4英寸宽的驼手刷将显影液涂在照片上。 如果相纸是湿的，并且显影液充足地使用，那么不会存在显影不均匀的危险。显影之后，停显以及紧接下来的定影也依此方式完成。

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