半导体表面材料清洗为什么先用一号液

半导体材料表面的污染物主要有二类：有机污染物和金属离子污染。一号液主要是清除有机污染物如油脂等的，二号液则主要清除金属离子污染。只有先清除材料表面覆盖的油污，才能彻底清除油污下面的离子污染物。所以应该先用一号液清洗，然后再用二号液清洗。

1、工业纯水设备实行全自动、手动冲洗，EDI 装置无需化学再生，并节能回收

2、RO膜在机内可进行化学药物清洗

3、源水，纯水，超纯水箱液位实行全自动控制，高水位自动停机及自动清洗功能，低水位自动开机及前处理反冲洗功能。

4、多级高压泵缺水保护，高低压保护，二级RO浓水自动回用，并自动调节PH值。

5、失压、欠压、过流、过载、短路、断路、漏电保护。

美国半导体清洗标准。对切割出来的硅片进行打磨、抛光。硅片的表面会有很多大小不一的、各种各样的颗粒，包括金属沫、油污等。这些颗粒是要清洗的内容。

1、加热。假设室温20℃的情况下，用加热器将清洗溶液的温度加热到80℃，这样酸碱在高温下能加快反应，得到更好的清洗效果。

2、使用超声波产生气泡，同样能够达到吸取硅片表面杂质的目的。这种情况是在温度要求不能太高的情况下使用的。

3、震动。为了让杂质不会粘贴在硅片表面上，采用一种晃动的方式，让装有硅片的篮子在清洗溶液中充分接触溶液，增加摩擦，有效去污。

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