半导体工业会用液体的氢化物来取代气体的甲锗烷是吗

半导体工业会用液体的氢化物来取代气体的甲锗烷是吗,第1张

甲锗烷在较高温度下时分解为锗和氢气。这种对热不稳定性被用于半导体工业中,即有机金属化学气相沉积法(MOVPE)。由于甲锗烷毒性较大,某些有机锗化合物(如异丁基锗)可以替代甲锗烷,应用于MOVPE中。锗烷作为高纯单质锗的重要来源之一,主要用于半导体,红外技术等方面。采用锗烷制备单质锗具有以下优点:锗烷分解在较低的温度下进行,并具有高的生产能力和高的产量,原始化合物和反应产品具有较小的反应能力,不需要补充试剂。20世纪60年代以前,锗一直是作为重要的半导体材料而被大量采用,95%以上的锗是用于制造半导体器件,以后由于硅材料的崛起,致使锗在半导体领域的用量一落千丈。但锗器件具有其它器件所无法比拟的优越性,锗具有非常小的饱和电阻,几乎无热辐射、功耗极小等优点。红外光学是耗锗最多的领域之一,美国和日本一直把锗烷作为战略储备物资用于军事方面。此外,锗在光纤、催化剂、医药、食品等领域仍然保持着一定的消耗量,还用于电阻温度计等。因此,即使硅材料被广泛使用,锗的生产也是必不可少的,而锗烷分解法是生产高纯锗的最佳方法之一。锗烷还应用于90nm以上CMOS(数码摄像器材感光元件)、无线网络、3G通讯器材半导体元件生产中的外延工艺。另外,锗烷在扩散、离子注入等工序中也多有应用。

半导体工业就是通过在本征半导体(比如纯硅)里掺杂质来调节半导体材料导电性和其它物理化学性能的,极微量杂质就会剧烈改变半导体材料的性能,所以整个生产过程必须用去离子水,以减少非必要杂质的引入。去离子水是高纯水,自来水乃至蒸馏水都达不到去离子水的纯度。

液氨主要用于生产硝酸、尿素和其他化学肥料,还可用作医药和农药的原料。 工业级氨水在国防工业中,用于制造火箭、导d的推进剂。可用作有机化工产品的氨化原料,还可用作冷冻剂。工业级氨水还可用于纺织品的丝光整理。NH3分子中的孤电子对倾向于和别的分子或离子形成配位键,生成各种形式的氨合物。如[Ag(NH3)2]+、[Cu(NH3)4]2+、BF3·NH3等都是以NH3为配位的配合物。


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