亲!您好,很高兴为您解答。亲石英砂酸洗配方如下:1)配比酸洗液根据石英砂原矿配比酸洗液。2)酸洗混合把酸洗液注入酸洗池中,按照盐酸量为砂重5%左右的比例进行添加,保证石英砂全部被酸洗液浸泡,盐酸量为砂重的5%左右。3)酸洗石英砂① 石英砂浸泡酸洗液的时间一般为3-5小时,具体需要根据石英砂黄皮情况增减浸泡时间,或将酸洗液和石英砂搅拌一段时间,其次可以使用加温设备,将溶液加热至一定温度,都可以减少酸洗时间。② 利用草酸和绿矾作为还原剂酸洗处理可以提高铁质物的溶解度,依次将水、草酸、绿矾按照比例在一定温度下配成溶液,将石英砂和溶液按照一定比例混合、搅拌,处理几分钟,将溶液滤出并处理后回收。③ 氢氟酸处理:单独适用氢氟酸处理时效果最好,但需要浓度较高。与连二亚硫酸钠共用时,可使用较低浓度氢氟酸。将一定浓度的盐酸和氢氟酸溶液按照比例同时混入到石英砂料浆中;也可以先用盐酸溶液处理,经水洗后再用氢氟酸处理,在高温下处理2-3小时,然后过滤和清洗。注意事项:若用氢氟酸对石英砂进行酸浸,反应比较复杂。除了铁在酸性介质中的溶解外,HF还能与石英本身发生反应,将表面一定厚度的SiO2及其他硅酸盐溶解掉。但这对于清洁石英砂表面、消除铁质及其他杂质污染更有效,因此,氢氟酸用来对石英进行酸浸效果最好。但是HF有毒,且具有强腐蚀性,因此酸浸废水需要特别处理。4)回收酸液和退酸用清水将酸洗后的石英砂冲洗2-3次,再用0。05%-0。5%的氢氧化钠(片碱)的碱性溶液进行中和,中和时间约为30-60分钟,并要保证所有的石英砂都中和到位。当pH值达到碱性,可以放出碱液,冲洗1-2次,直到pH为中性。5)干燥石英砂石英砂在退酸后要将水分沥出,再将石英砂放入烘干设备干燥。6)筛分、色选及包装等。以上就是石英砂酸洗酸浸处理工艺的基本流程,石英砂矿在我国有着比较广泛的分布,所以石英砂的性质也存在着差异,在对石英砂进行提纯处理的时候还需要具体问题具体分析,制定出最合适的石英砂提纯处理流程。希望我的回答能帮助到您!请问您还有其它问题需要咨询吗?
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您好,为您查询到:目前工业上常见的石英砂环保酸洗配方有草酸+氟化氢铵、草酸+氢氟酸等。
2022-08-23
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石英砂酸洗成本多少少
地瓜一号pi
金牌答主
亲,您好!很高兴为您解答:石英砂酸洗成本多少少答:亲亲您好[开心],酸洗一吨成本要400-500元石英砂是石英石经破碎加工而成的石英颗粒。石英石是一种非金属矿物质,是一种坚硬、耐磨、化学性能稳定的硅酸盐矿物。石英砂的颜色为乳白色、或无色半透明状,莫氏硬度7。石英砂是重要的工业矿物原料,非化学危险品,广泛用于玻璃、铸造、陶瓷及防火材料、冶炼硅铁、冶金熔剂、冶金、建筑、化工、塑料、橡胶、磨料,滤料等工业。
2022-08-03
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亲,很高兴为您解答:石英砂酸洗成本多少少答酸洗一吨成本要400-500元实际上酸洗石英砂滤料是一种化学性质非常稳定的矿物,一般只要用普通的储藏方法就能保证石英砂不会变质。但还要强调的是,尽管石英砂的化学性质非常稳定,但在贮存过程中仍有一些问题需要注意。石英砂滤料不要与托盘料及其他类型的滤料堆叠,以免影响过滤性能,另外石英砂滤料不能与有毒或污染物质堆叠,石英砂滤料与这些物质堆叠的时间过长就会失效,而且不要漏天存放。
2022-08-03
服务人数7960
石英石如何酸洗干净
是小李学长
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亲,石英石酸洗干净方法:,1.普通污渍:只要用沾水的抹布将它擦拭干净。,2.油污:可以用小苏打加入白醋擦拭台面,去污效果很好,再用清水擦拭干净。,3.铁锈:可以把牙膏涂抹在铁锈处,过一会再用湿布擦拭干净。,4.凝固污垢:需要用刮板去除,再用清洁剂和抹布擦拭干净。
2022-05-08
服务人数7761
酸洗石英石怎样脱酸洗
abc氘氘
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您好,亲亲,酸洗石英石脱酸洗的具体步骤是:步骤一、将盐酸或硝酸中至少一种酸液酸洗后的石英砂冲洗后,将酸洗石英砂在碳酸氢钠溶液中浸泡后过滤,用去离子水冲洗;步骤二、向冲洗后的酸洗石英砂中加入去离子水,得到第一混合物后,接种反硝化细菌,并加入琼脂块,密闭静置后分离出琼脂块,将第一混合物中水浴加热后,过滤,用去离子水冲洗;步骤三、向冲洗后的酸洗石英砂中加入去离子水得到第二混合物后,在第二混合物中加入活性炭,0.5~1h后,分离出活性炭,过滤,得到的酸洗石英砂用去离子水冲洗即可。本发明通过先弱碱洗、再利用反硝化细菌、活性炭清除残留在酸洗石英砂表面的杂质离子,使酸洗石英砂更纯净,颜色更洁白哦,感谢您的咨询,很高兴能为您解答,希望能帮助到您,祝您:生活愉快,工作顺利,平安健康!
2022-11-21
服务人数961
石英砂酸洗配方 — 找答案,就来「问一问」
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5分钟内响应 | 万名专业答主
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随着我国经济的高速发展,半导体行业的发展也在迅速崛起,因此在半导体工业加工的过程中不可避免的会产生含有氟离子,铜离子,磷废水的污染物废水。
含氟离子废水处理:
将废水的p H值调整在6-7左右,再加入的过量的Ca
Cl2和适量的絮凝剂,后续会行形成沉淀,部分污泥循环成为载体,在沉淀池中通过重力沉降能够实现泥水分离。
第一次反应时能够去除80%的氟,再一次加入絮凝剂,氟化钙及其其他形态沉淀,利用污泥泵输送到污泥沉淀池,用板框式脱水机压成泥饼外运,这时候产生的压滤液进入其他的系统进一步处理。
含磷离子废水处理:
含磷废水中磷主要以PO43-为主,采用的方法为化学沉淀法和混凝剂沉降法的组合工艺,通过加入Ca
Cl2生成难溶于水的Ca5(PO4)3OH沉淀。
一级反应池的p H调整到5-6左右,二级反应池p H调整到8.5-9,三级反应池p
H调整到9-9.5(确保完全生成羟基磷酸钙),此工艺流程比较简单,费用也比较低,对于含磷废水处理有很大的适用性。
与研磨废水进行混合:
将半导体器件制造中产生的电镀废水和研磨废水进行混合,混合废水泵入浸没式膜过滤装置过滤,过滤的水泵入纳滤膜过滤装置过滤,经过纳滤膜过滤装置过滤的水即可直接回用。
以上是小编整理的半导体工业废水的处理方法都有哪些,后期将会关于更多污水处理的相关内容。
主要是对硅晶片(Si wafer)的一系列处理1、清洗 ->2、在晶片上铺一层所需要的半导体 ->3、加上掩膜 ->4、把不要的部分腐蚀掉 ->5、清洗
重复2到5就可以得到所需要的芯片了
Cleaning ->Deposition ->Mask Deposition ->Etching ->Cleaning
1、中的清洗过程中会用到硝酸,氢氟酸等酸,用于清洗有机物和无机物的污染
其中Deposition过程可能会用到多种器材,比如HELIOS等~
Mask Deposition过程中需要很多器材,包括Spinner,Hot plate,EVG等等~
根据材料不同或者需要的工艺精度不同,Etching也分很多器材,可以使用专门的液体做Wet etch,或者用离子做Plasma Etching等
最后一部的Cleaning一般是用Develpoer洗掉之前覆盖的掩模~
多数器材都是Oxford Instruments出的
具体建议你去多看看相关的英文书,这里说不清楚。。
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