60岁创办中微半导体！自研出首台5nm刻蚀机，确立了技术地位领先

近两年，我国半导体行业的发展速度很快，但和美国等 科技 巨头相比较，技术仍是落后别人，但是国内产生所自研的技术、设备都能达到世界领先水平。最成功的案例莫过于蚀刻机设备，国内芯片企业所自研的蚀刻机已打破海外的技术垄断。

很多人都不清楚，蚀刻机的重要性并不低于光刻机，两者皆是生产高端芯片的重点设备。

但是，我国的光刻机设备一直处于十分落后的状态，很难让国内半导体厂商生产出高端芯片工艺。而蚀刻机在我国却是特别先进，用于下一代新高端工艺芯片生产，也是绰绰有余。

据了解，中微半导体的所自研的高精度蚀刻机已达到5nm，是国内半导体高端设备的顶尖存在，更是国际半导体行不可忽视的力量。在全球半导体设备企业满意度调查中，中微半导体公司排进世界第三，这也说明很多客户对于中微半导体产品是非常认可的。

要知道，中微半导体之所可以取得今日的巨大成就，完全离不开中微半导体创始人尹志尧，尹志尧拥有200多项各国专利和86项美国专利，而在美国硅谷也是具有一定影响力的华人之一。60岁时的尹志尧身披荣誉，决定携带团队回国创业。

尹志尧携团队回国，创办了中微半导体公司，并且展开对蚀刻机设备的研发，仅仅几年时间，中微半导体企业便自研出第一代介质刻蚀机，该蚀刻机采用单独 *** 作双反台，该设备相比其它蚀刻机效率提升了30％，中微半导体也在市场上获得了好名声。

随着中微半导体的创新技术不断产出，在一段时间当中，中微半导体毅然遭到了美国技术的封锁，直到2015年期间，美国才放弃对中微半导体公司的技术封锁。

中微半导体成立的第11年，中微半导体再次自研出首台最先进的5nm刻蚀机，自此，中国的5nm蚀刻机在全球确立了5nm刻蚀机技术的地位领先。

现如今的中微半导体5nm蚀刻机设备已和台积电等芯片代工企业采购，目前，对于国内的芯片产业链来看，中微半导体已经可以长久的供应技术维持。

对于中微半导体公司的未来发展你怎么认为？

在半导体芯片制造中，“光刻”和“刻蚀”是两个紧密相连的步骤，它们也是非常关键的步骤。 “光刻”等同于通过投影在晶片上“绘制”电路图。此时，电路图实际上并未绘制在晶圆上，而是绘制在晶圆表面的光刻胶上。光刻胶的表面层是光致抗蚀剂，光敏材料将在曝光后降解。 “蚀刻”是实际上沿着光致抗蚀剂的表面显影以在晶片上雕刻电路图的图案。

半导体芯片设备蚀刻机在芯片制造领域处于国内替代的最前沿。有三个核心环节，分别是薄膜沉积，光刻和刻蚀。刻蚀是通过化学或物理方法选择性地蚀刻或剥离基板或表面覆盖膜的表面以形成由光刻法限定的电路图案的过程。

其中，光刻是最复杂，最关键，最昂贵和最耗时的环节。刻蚀的成本仅次于光刻，其重要性正在提高。薄膜沉积也是必不可少的重要过程。为了实现大型集成电路的分层结构，需要重复沉积-蚀刻-沉积的过程。

随着国际高端量产芯片从14nm到10nm到7nm，5nm甚至更小芯片的发展，当前市场上普遍使用的浸没式光刻机受到光波长的限制，密钥尺寸无法满足要求，因此必须采用多个模板过程。 使用蚀刻工艺来达到较小的尺寸，使得刻蚀技术及相关设备的重要性进一步提高。

刻蚀机是芯片制造和微处理的最重要设备之一。它使用等离子蚀刻技术，并使用活性化学物质在硅晶圆上蚀刻微电路。 7nm工艺相当于人发直径的千分之一，这是人在大型生产线上可以制造的最小集成电路布线间距，接近微观加工的极限。尽管我国的半导体设备行业与国际巨头之间仍然存在差距，但我们可以看到，无论是受环境，下游需求还是研发能力的驱动，国内半导体设备行业都发生了质的飞跃。

中微公司主要从事高端半导体芯片设备，包括半导体芯片集成电路制造，先进封装，LED生产，MEMS制造以及其他具有微工艺的高端设备。该 公司的等离子蚀刻设备已专门用于国际一线客户的集成电路和65nm至14nm，7nm和5nm先进封装的加工和制造。其中，7nm / 5nm蚀刻技术是国内稀缺性的技术。 该公司的MOCVD设备已在行业领先客户的生产线上投入批量生产，已成为基于GaN的LED的全球领先制造商。

公司的客户包括国内外的主流晶圆厂和LED制造商。随着公司产品性能的不断提高，客户的认可度和丰富度也在不断提高。公司生产的蚀刻设备的主要客户包括 全球代工领导者台积电，大陆代工领导者中芯国际，联电，海力士，长江存储等，光电厂商华灿光电、璨扬光电、三安光电 等。随着中微股份在半导体芯片设备领域的不断发展，公司在IC制造，IC封装和测试以及LED行业中的渗透率不断提高，并且越来越多国际厂商已成为公司的主要客户。公司开发的5nm蚀刻机已通过台积电的验证。 Prismo A7设备在全球基于氮化镓的LED MOCVD市场中处于领先地位，成功超过了传统的领先企业Veeco和Aixtron。

中微公司的主要业务是蚀刻设备和MOCVD设备的生产和销售，并处于国内半导体设备市场的前列。与公司有可比性的公司包括领先的国际蚀刻设备LAM和MOCVD设备领先的Veeco，以及国内两级半导体设备公司北方华创和精测电子。 在蚀刻设备市场上，中微公司与LAM之间存在很大差距，在MOCVD设备领域，中微公司具有与Veeco相近的实力。从国内来看，中微公司和精测电子处于同一水平，仅次于北华创，主要是因为公司是半导体芯片设备的后起之秀。总体而言，中微公司处于国内半导体芯片设备的第一梯队。

2020年前三季度，营业收入为14.8亿元，同比增长21.3％，归属于母公司所有者的净利润为2.8亿元，同比大幅增长105.3％。扣非净利润-4547.3万元，同比下降138.1％。其中，前三季度非经常性损益为2.44亿元。剔除政府补贴，确认的公允价值变动损益为1.55亿元，这主要是由于公司对中芯国际A股股权价值变动的投资以及LED芯片的供过于求。随着价格持续下降，下游企业面临毛利率和库存的双重压力。

A股上市公司半导体芯片刻蚀设备黑马股中微公司自2020年7月见顶后保持中期下降趋势，主力筹码相对较少控盘不足，据大数据统计，主力筹码约为21%，主力控盘比率约为31%； 趋势研判与多空研判方面，可以参考15日与45日均线的排列关系，中短期以15日均线作为多空参考，中期以45日均线作为多空参考。

1996年，美国牵头以西方国家为主的三十余个国家，在奥地利维也纳签下了一份禁售协议（瓦森纳协议）。该协议的主要内容为：成员国在出口敏感产品和技术前，在自愿前提下向其他成员国报备。该协议的初衷原是为了增加透明度，增强敏感产品或技术的可控性。但是在实践过程中，却明显违背了自愿性的原则，逐渐演变为美国的“一言堂”。这一点，在捷克的无源雷达设备、乌克兰的发动机、荷兰的光刻机等生意上，体现得淋漓尽致。

也正是因为该协议的存在，在“中国制造”走向“中国创造”的路上，很多人都注意到了某些领域的极端落后。这其中的主要代表，非芯片莫属。这块小小的集成电路，在电脑手机这样的数码产品和空调电视这样的智能家具上，扮演着不可或缺的重要角色。据金十数据报道：早在2018年，中国的芯片消费量就已经达到全球的33%，超过了美欧两大洲的消费总和。但是在出口方面却相当薄弱，中国芯片在全球芯片供应市场的占比仅有3%，而美国和韩国的数据分别是50%和27%。

这份落后，引起了大量有识之士的注意，于是乎，转折出现了。2019年9月，紫光集团旗下的长江存储带来一则“有望将中国存储芯片自给率从8%提升至40%”的喜讯，Xtacking架构的64层三维闪存已经开始量产。四个月后，三星（全球第一大存储芯片制造商）和SK海力士（全球第二大存储芯片制造商）传出2019年利润暴跌的消息。前者的年营业利润缩水52.9%，后者的2019第四季度营业利润缩水了95%。面对利润“跳水”，SKT海力士隐晦地归结为一句“供过于求”。但明眼人都知道，这背后是中国芯片崛起。

后不久，中微半导体设备公司也带来了好消息。该公司的CEO尹志尧博士表示“国产5nm蚀刻机已经问世，中微半导体作为全球唯一一家可生产5nm蚀刻机的设备供应商，已与台积电签订了合作合同”。该消息一经曝出，多家媒体给出了“芯片垄断进一步松动”的高度评价，很多网友也在第一时间想起来依赖台积电代工的华为。华为虽有研发7nm甚至5nm5G芯片的实力，但国内并没有有能力量产相应制程工艺芯片的供应商。而特朗普正是盯准了这一点，计划通过修改《外国直接产品规则》，来限制台积电向华为的芯片供货。

蚀刻机听起来和“光刻机”这么像，是不是就意味着华为有救了，中国企业可以独立制造5nm芯片了呢？答案是否定的。“光刻”和“蚀刻”是制作芯片过程中的两个重要流程，前者是将电路缩小，印照在涂抹了光刻胶的金属板上，形成晶圆。后者是对光刻胶的晶圆部分，进行化学腐蚀，最终得到想要的晶圆形状。所以光有蚀刻机，是不足以制造芯片的。虽然二者技术难度听上去相差不多，但是一台由荷兰生产的EUV光刻机有价无市，可以卖出十倍于国产蚀刻机的售价。

不过，也没必要因此而大感失望。毕竟作为一个条件相对艰苦许多的追赶者，一口吃不成一个大胖子，才符合商业和研发的规则。更何况，蚀刻机在所有制造芯片的设备中，技术难度仅次于光刻机，而中微半导体已经走在了全球前列。除此之外，中微半导体在重要性堪比光刻机的薄膜设备研制上也走在全球全列。倘若中微半导体能够保持在该领域的技术优势，完全有机会在日后实现，对以台积电为代表的制造芯片企业的反垄断。（李双喜）

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