另外,在半导体技术中,除了研制单晶半导体以外,往往还需要研制半导体薄膜,这就需要采用化学气相外延、分子束外延、蒸发和溅射等技术,其中有的是物理变化(如蒸发),有的是化学变化(如外延).
你好,你想问有机半导体和光刻胶反应的原因是什么吗?有机半导体和光刻胶反应的原因是光。光刻胶具有光化学敏感性,可利用其进行光化学反应,将光刻胶涂覆半导体、导体和绝缘体上,经曝光、显影后留下的部分对底层起保护作用,所以有机半导体和光刻胶反应的原因是光。欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
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