半导体工艺流程中的前段（F）后段（B）一般是如何划分的，为何要这样划分？

芯片的制造过程可概分为晶圆处理工序（WaferFabrication）、晶圆针测工序（WaferProbe）、构装工序（Packaging）。

测试工序（InitialTestandFinalTest）等几个步骤。其中晶圆处理工序和晶圆针测工序为前段（FrontEnd）工序，而构装工序、测试工序为后段（BackEnd）工序。

按照其制造技术可分为分立器件半导体、光电半导体、逻辑IC、模拟IC、存储器等大类，一般来说这些还会被再分成小类。

此外，IC除了在制造技术上的分类以外，还有以应用领域、设计方法等进行分类，最近虽然不常用。

但还有按照IC、LSI、VLSI（超大LSI）及其规模进行分类的方法。此外，还有按照其所处理的信号，可以分成模拟、数字、模拟数字混成及功能进行分类的方法。

晶圆处理工序：本工序的主要工作是在晶圆上制作电路及电子元件（如晶体管、电容、逻辑开关等），其处理程序通常与产品种类和所使用的技术有关。

但一般基本步骤是先将晶圆适当清洗，再在其表面进行氧化及化学气相沉积，然后进行涂膜、曝光、显影、蚀刻、离子植入、金属溅镀等反复步骤，最终在晶圆上完成数层电路及元件加工与制作。

扩展资料：

（1）元素半导体。元素半导体是指单一元素构成的半导体，其中对硅、锡的研究比较早。它是由相同元素组成的具有半导体特性的固体材料，容易受到微量杂质和外界条件的影响而发生变化。目前，只有硅、锗性能好，运用的比较广，硒在电子照明和光电领域中应用。

硅在半导体工业中运用的多，这主要受到二氧化硅的影响，能够在器件制作上形成掩膜，能够提高半导体器件的稳定性，利于自动化工业生产。

（2）无机合成物半导体。无机合成物主要是通过单一元素构成半导体材料，当然也有多种元素构成的半导体材料，主要的半导体性质有I族与V、VI、VII族；II族与IV、V、VI、VII族；III族与V、VI族；IV族与IV、VI族。V族与VI族；

VI族与VI族的结合化合物，但受到元素的特性和制作方式的影响，不是所有的化合物都能够符合半导体材料的要求。这一半导体主要运用到高速器件中，InP制造的晶体管的速度比其他材料都高，主要运用到光电集成电路、抗核辐射器件中。对于导电率高的材料，主要用于LED等方面。

参考资料来源：百度百科-半导体

芯片分为设计与制造两个环节

晶圆（wafer），相当于芯片的“地基”，提到晶圆一般会提到尺寸如8寸或12寸，尺寸是硅晶圆的单位

单晶（monocrystalline）具有原子一个个紧密排列的特性，可以形成平整的原子表层，使用单晶做晶圆，可以使后续添加的原则和基板结合更固定

IC芯片3D剖面图

底部是晶圆，红色（一楼）相对其他层较复杂，是IC中最重要的部分，多种逻辑闸组合一起

黄色（一般楼层），需要多层是因为单次无法容纳所有电路，所以需要堆叠

上面介绍IC的构造，这部分看如何只做

IC芯片的外壳，芯片尺寸微小，需要一个大尺寸的外壳做保护和安装

intel、高通、博通、英伟达、美满、赛灵思、Altera、联发科、海思、展讯、华大半导体等

中芯科技、三星、SK海力士、华润微电子、华虹宏力、英特尔、台积电、华力微电子、西安微电子、和舰科技、联电、力晶等

安靠、长安科技、通富微电、日月光、力成、南茂等

原文：

终于有人讲透了芯片设计流程!(电子人必读) - 百度文库 (baidu.com)

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