中微半导体5nm真假

中微半导体5nm真假,第1张

中微半导体5nm是误导性新闻。

某网络媒体未经证实发布了关于 “当所有的巨头还在为10nm、7nm技术大肆进军的时候,中国中微正式宣布掌握5nm技术”的误导性新闻,后经多家媒体转载造成了不实信息的扩散。

中微公司从未发布上述信息,也从未授权任何媒体机构和个人刊发、转载此报道。该报道曲解了中微在3月11日CCTV-2《中国财经报道》节目中的采访内容,节目中提到中微公司的某个机台正在测试5纳米工艺。

在采访报道中,中微董事长兼CEO尹志尧博士表示:“国际上最先进的芯片生产公司像英特尔、台积电、三星,他们的14纳米已经成熟生产了,10纳米和7纳米很快进入生产,所以我们必须超前,5纳米今年年底基本上就要定了,现在进展特别快,几乎一年两年就一代,所以我们就赶得非常紧。”

实际上,正是中微的客户——国际一流的集成电路制造厂商,推动了芯片技术和生产一代又一代的进步。中微作为设备公司,是向他们提供可加工先进器件的设备,协助他们实现新一代器件的开发和生产。中微不可能脱离他们的5纳米技术开发,而独立地掌握5纳米技术。

中微从事的是半导体高端设备的开发、销售和售后服务,是一种市场化的商业行为,在国际半导体设备产业,参与产业链的合作和竞争也是十分正常的。文章的作者也不应该将这种正常的商务行为过分夸大和渲染,造成不必要的、非商业的敏感性。

扩展资料

刻蚀机是芯片制造的核心设备,和光刻机的作用是一样重要的,只不过其不存在技术壁垒,所以不存在一家独大的局面。

刻蚀机主要用来在芯片上进行微观雕刻,刻出又细又深的线条和接触孔,需要注意的是,这些线条和接触孔的加工精度是头发丝直径的几万分之一,可见这项工作有多精细,这也对刻蚀机的精度提出了很高的要求,不能有丝毫偏差,而如今中微半导体成功研发出5nm刻蚀机也能够解决芯片研发中的难题,意义重大。

中微半导体刻蚀机不仅获得台积电的认可,而且还获得不少国产厂商的青睐,近日长江存储就向中微半导体采购9台刻蚀机,接下来中微半导体还将和粤芯、合肥长鑫等多家厂商合作,国产厂商齐心协力,共同打赢这场芯片反击战。

参考资料:百度百科—中微半导体设备(上海)有限公司

近两年,我国半导体行业的发展速度很快,但和美国等 科技 巨头相比较,技术仍是落后别人,但是国内产生所自研的技术、设备都能达到世界领先水平。最成功的案例莫过于蚀刻机设备,国内芯片企业所自研的蚀刻机已打破海外的技术垄断。

很多人都不清楚,蚀刻机的重要性并不低于光刻机,两者皆是生产高端芯片的重点设备。

但是,我国的光刻机设备一直处于十分落后的状态,很难让国内半导体厂商生产出高端芯片工艺。而蚀刻机在我国却是特别先进,用于下一代新高端工艺芯片生产,也是绰绰有余。

据了解,中微半导体的所自研的高精度蚀刻机已达到5nm,是国内半导体高端设备的顶尖存在,更是国际半导体行不可忽视的力量。在全球半导体设备企业满意度调查中,中微半导体公司排进世界第三,这也说明很多客户对于中微半导体产品是非常认可的。

要知道,中微半导体之所可以取得今日的巨大成就,完全离不开中微半导体创始人尹志尧,尹志尧拥有200多项各国专利和86项美国专利,而在美国硅谷也是具有一定影响力的华人之一。60岁时的尹志尧身披荣誉,决定携带团队回国创业。

尹志尧携团队回国,创办了中微半导体公司,并且展开对蚀刻机设备的研发,仅仅几年时间,中微半导体企业便自研出第一代介质刻蚀机,该蚀刻机采用单独 *** 作双反台,该设备相比其它蚀刻机效率提升了30%,中微半导体也在市场上获得了好名声。

随着中微半导体的创新技术不断产出,在一段时间当中,中微半导体毅然遭到了美国技术的封锁,直到2015年期间,美国才放弃对中微半导体公司的技术封锁。

中微半导体成立的第11年,中微半导体再次自研出首台最先进的5nm刻蚀机,自此,中国的5nm蚀刻机在全球确立了5nm刻蚀机技术的地位领先。

现如今的中微半导体5nm蚀刻机设备已和台积电等芯片代工企业采购,目前,对于国内的芯片产业链来看,中微半导体已经可以长久的供应技术维持。

对于中微半导体公司的未来发展你怎么认为?


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