功率半导体芯片制造中用的热、 气 ，分别指的是什么？

半导体芯片制造过程都要很严谨的设备，包括功率作用的半导体也一样。

一般来说半导体制程中的

“热”包括：晶圆的拉晶用高温蒸镀电热管，切晶圆和功率晶粒，功能晶片的高温钻石刀，封装的高温制程有各种热导管和热熔炉，测试用的高温高压蒸馏炉箱。

“气”包括有各种氧气，氮气，酸性，碱性，活化气，钝化气，阻隔气体和促进气体。

特种的气体，用于半导体的高纯度气体（或者叫电子气体）是一种生产半导体、液晶、太阳能电池等各种电子产品时使用的特殊的高纯度气体。从大的方面来说，有用于制作半导体配线的气体材料、用于蚀刻（进行半导体细微加工工程）、用于生产设备清洁工艺的气体。

比方说，三氟化氮是被广泛应用于生产设备的清洁气体（Cleaning Gas），六氟化钨是作为半导体的钨配线材料，其需求正急剧上升。

作为NAND（非挥发性存储半导体）、DRAM（挥发性存储半导体）等存储半导体的蚀刻气体（Etching Gas），氯气、溴化银、氟甲烷、四氟化碳、八氟环丁烷、六氟丁二烯等的需求正在增长。

扩展资料

电子特气是集成电路、平面显示器件、化合物半导体器件、太阳能电池、光纤等电子工业生产中不可缺少的基础和支撑性材料，被广泛应用于薄膜、掺杂、腔室清洗、光刻、刻蚀、清洗、载气、保护气等工艺。2018年电子特气在半导体前道制造所需材料中占比高达18%。

中国电子特气的发展对我国半导体芯片产业的发展起着至关重要的作用，也直接关系到国民经济发展和国家战略安全。

日韩贸易摩擦把半导体材料对一个国家的重要性体现得淋漓尽致，仅仅高纯度氟化氢，光刻胶和氟化聚酰亚胺三种产品就能对整个韩国国民经济构成严重影响。日韩半导体材料事件也为国内半导体产业敲响了警钟，未来半导体材料的国产化进程将会加速。

参考资料来源：百度百科-电子特气

A．N原子上有1对孤对电子，有3个N-F键，类似氨气的结构，则NF3分子中N原子是sp3杂化，分子呈三角锥形，故A正确；

B．根据相似相溶原理可知，有机物易溶于有机物，而水为无机物，则C3F8在CCl4中的溶解度比水中大，故B正确；

C．碳原子连有四个不同的基团，则具有手性，则CHClFCF3存在手性异构，故C正确；

D．这三种元素的第一电离能顺序为：O＜N＜F，故D错误；

故选D．

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