和“光刻机”同样重要的“刻蚀机”是怎样造出来的？

光刻机和刻蚀机的区别：

刻蚀相对光刻要容易。光刻机把图案印上去，然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案（或者没有图案）的部分，留下剩余的部分。

“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆（或者叫硅片）上盖上事先做好的光刻板，然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射。原理就是利用紫外线使部分光刻胶变质，易于腐蚀。

“刻蚀”是光刻后，用腐蚀液将变质的那部分光刻胶腐蚀掉（正胶），晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形。然后用另一种腐蚀液对晶圆腐蚀，形成半导体器件及其电路。

1944年，尹志尧出生在北京的一个爱国家庭，他的祖父是公费留学生，父亲也曾留学日本然后又回到祖国，为国家做贡献。

1962年尹志尧顺利考入中国科学技术大学化学物理系，1968年顺利毕业后，他先后分配到兰州炼油厂和中科院兰州物理化学所工作，1978年，尹志尧再接再厉又进入到北京大学化学系攻读硕士学位，1980年他又前往美国加利福尼亚大学洛杉矶分校，继续深造在获得物理化学博士学位。

之后尹志尧在硅谷工作了20年在此期间先进入到英特尔公司，1986年尹志尧受邀加入到L5M，主要负责等离子体刻蚀设备的研发，1991年应用材料公司请他担任等离子刻蚀总部的工程及技术主管。为了避免知识产权方面的问题，他带领团队从头开始，仅用了九年时间，就让应用材料公司占据国际刻蚀机设备市场的40%

尹志尧在半导体行业，有86项美国专利，和200多项各国专利，并被公认为是硅谷最有成就的华人之一。

然而就在60岁退休之际，尹志尧做出了一个大胆的决定，他带着自己的15人团队回到了中国，2004年，他创办了中微半导体公司，让中国突破了刻蚀机的技术垄断奠定了我国自主生产芯片的技术，如今，中微半导体公司生产的刻蚀机在米粒上刻一亿个字到十亿个字的突破，而尹志尧对祖国的贡献还在继续。

硅片晶圆清洗机、蚀刻机、单片清洗机、电镀设备。半导体是指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料，半导体wet设备有硅片晶圆清洗机、蚀刻机、单片清洗机、电镀设备。半导体在收音机、电视机以及测温上有着广泛的应用。

锗、硅、硒、砷化镓及许多金属氧化物和金属硫化物等物体，它们的导电能力介于导体和绝缘体之间，叫做半导体。

半导体具有一些特殊性质。如利用半导体的电阻率与温度的关系可制成自动控制用的热敏元件（热敏电阻）；利用它的光敏特性可制成自动控制用的光敏元件，像光电池、光电管和光敏电阻等。

半导体还有一个最重要的性质，如果在纯净的半导体物质中适当地掺入微量杂质测其导电能力将会成百万倍地增加。利用这一特性可制造各种不同用途的半导体器件，如半导体二极管、三极管等。

把一块半导体的一边制成P型区，另一边制成N型区，则在交界处附近形成一个具有特殊性能的薄层，一般称此薄层为PN结。图中上部分为P型半导体和N型半导体界面两边载流子的扩散作用（用黑色箭头表示）。中间部分为PN结的形成过程，示意载流子的扩散作用大于漂移作用（用蓝色箭头表示，红色箭头表示内建电场的方向）。下边部分为PN结的形成。表示扩散作用和漂移作用的动态平衡。

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