2,半导体材料特性
3,器件技术
4,硅和硅片制备
5,半导体制造中的化学品
6,硅片制造中的沾污控制
7,测量学和缺陷检查
8,工艺腔内的气体控制
9,集成电路制造工艺概况
10,氧化
11,淀积
12,金属化
13,光刻:气相成底膜到软烘
14,光刻:对准和曝光
15,光刻:光刻胶显影和先进的光刻技术
16,刻蚀
17,离子注入
18,化学机械平坦化
19,硅片测试
20,装配与对封
大方向主要有:集成电路制造(半导体工艺,半导体器件)
集成电路设计(底层电路设计(偏物理)--->SOC设计(偏编程)…)
MEMS(微机电系统),需要非常杂的知识面
EDA,是介于制造和设计之间的一个比较独特的领域,需要比较广的知识面和编程能力
一般来说最基础的四门课程包括:
半导体(器件)物理,半导体工艺,模拟电路,数字电路
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