Ion
Etch)
原理就是用各种气体的plasma来对半导体芯片进行蚀刻
不同气体的plasma的作用是不一样的~你说的除去异物的那种,我估计应该是氧气(O2)或者氩气(Ar)吧?
激活表面这个说法我还真没有听说过。。
个人觉得不会。。1是觉得没有必要,2是因为没有mask的话,直接上plasma进行对芯片本体的结构处理是很危险的。。有可能会损坏原有的构造,导致芯片损毁
欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
Ion
Etch)
原理就是用各种气体的plasma来对半导体芯片进行蚀刻
不同气体的plasma的作用是不一样的~你说的除去异物的那种,我估计应该是氧气(O2)或者氩气(Ar)吧?
激活表面这个说法我还真没有听说过。。
个人觉得不会。。1是觉得没有必要,2是因为没有mask的话,直接上plasma进行对芯片本体的结构处理是很危险的。。有可能会损坏原有的构造,导致芯片损毁
欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
评论列表(0条)