中微半导体5nm是误导性新闻。
某网络媒体未经证实发布了关于 “当所有的巨头还在为10nm、7nm技术大肆进军的时候,中国中微正式宣布掌握5nm技术”的误导性新闻,后经多家媒体转载造成了不实信息的扩散。
中微公司从未发布上述信息,也从未授权任何媒体机构和个人刊发、转载此报道。该报道曲解了中微在3月11日CCTV-2《中国财经报道》节目中的采访内容,节目中提到中微公司的某个机台正在测试5纳米工艺。
在采访报道中,中微董事长兼CEO尹志尧博士表示:“国际上最先进的芯片生产公司像英特尔、台积电、三星,他们的14纳米已经成熟生产了,10纳米和7纳米很快进入生产,所以我们必须超前,5纳米今年年底基本上就要定了,现在进展特别快,几乎一年两年就一代,所以我们就赶得非常紧。”
实际上,正是中微的客户——国际一流的集成电路制造厂商,推动了芯片技术和生产一代又一代的进步。中微作为设备公司,是向他们提供可加工先进器件的设备,协助他们实现新一代器件的开发和生产。中微不可能脱离他们的5纳米技术开发,而独立地掌握5纳米技术。
中微从事的是半导体高端设备的开发、销售和售后服务,是一种市场化的商业行为,在国际半导体设备产业,参与产业链的合作和竞争也是十分正常的。文章的作者也不应该将这种正常的商务行为过分夸大和渲染,造成不必要的、非商业的敏感性。
扩展资料
刻蚀机是芯片制造的核心设备,和光刻机的作用是一样重要的,只不过其不存在技术壁垒,所以不存在一家独大的局面。
刻蚀机主要用来在芯片上进行微观雕刻,刻出又细又深的线条和接触孔,需要注意的是,这些线条和接触孔的加工精度是头发丝直径的几万分之一,可见这项工作有多精细,这也对刻蚀机的精度提出了很高的要求,不能有丝毫偏差,而如今中微半导体成功研发出5nm刻蚀机也能够解决芯片研发中的难题,意义重大。
中微半导体刻蚀机不仅获得台积电的认可,而且还获得不少国产厂商的青睐,近日长江存储就向中微半导体采购9台刻蚀机,接下来中微半导体还将和粤芯、合肥长鑫等多家厂商合作,国产厂商齐心协力,共同打赢这场芯片反击战。
参考资料:百度百科—中微半导体设备(上海)有限公司
一直以来,半导体行业都是国内产业生产的薄弱之处,很多技术都依赖于外企。
像EUV光刻机、芯片核心制造技术以及高端光刻胶等方面,但同样我们在芯片设计、封测技术等方面也占据了世界前列的位置。
如今,随着局势的变化,华为因芯片断供产生的后续影响已经初步显现,它让国产其他相关企业认识到只有自己掌握了核心技术才能避免在这些方面受到技术上的"卡脖子"。
11月13日,根据新浪 财经 最新报道,国内光刻胶领域迎来好消息,对于国内7nm芯片制造或可迎来重大突破。消息显示,国内宁波南大光电材料有限公司已正式宣布,首条ArF光刻胶生产线已经正式投入生产,预计项目完成后年销售额达10亿元。
目前该公司已经将生产出来的ArF光刻胶样品送至客户手中进行测试,如果测试成功,那么该公司将迎来更多ArF光刻胶方面的订单。
或许有小伙伴不太了解ArF光刻胶。
光刻胶在芯片生产中起到很关键的作用,可以说它是集成电路产生制造中的核心材料,对于芯片最终呈现的质量和性能方面都有很大的影响,因而光刻胶的成功对于生产制造芯片也有很大的帮助。
目前来说,虽然国内不乏有主营光刻胶的企业,但在ArF光刻胶这样的高端种类却几乎100%依赖于外企,而ArF光刻胶在对于28nm-7nm工艺芯片的生产起到至关重要的作用,因而可以说这一次在ArF光刻胶上的突破也预示着在7nm芯片制造上迎来突破!
根据资料显示,目前高端光刻胶主要集中于美企和日企手中,所占份额达全球光刻机份额的95%,而这一次宁波南大光电材料有限公司在ArF高端光刻胶中的突破也预示着国产半导体的逆势崛起,将打破美日企业在高端光刻胶领域上的垄断。
不过,想要避免外资企业在技术上的垄断,光靠一家公司明显后劲不足,但就如今的发展趋势来说,目前国产半导体相关企业已经纷纷在各自的领域中寻找突破之路。
上海微电子、上海华虹半导体、晶瑞股份等公司在芯片生产工艺上以及光刻机上等方面寻求突破口,照这样的趋势发展,未来国产半导体行业将迎来新生!
从整体上看,东南亚在全球芯片封装测试市场的占有率为 27%。据央视财经报道,东南亚是全球主要的半导体芯片封装和测试中心,日前,越南、马来西亚等国疫情形势恶化,极有可能加剧全球芯片短缺问题。
从6月1日开始,马来西亚则是重新进入了全国性的全面封锁,这些都为全球半导体芯片和电子产品的供应链带来了新的挑战。
越南关闭部分工厂
小米、华为、三星、英特尔、苹果等都在越南有产业链布局,主要集中在越南北部的工业省,而近期感染病例激增的越南北江省和北宁省就有数百家进入全球供应链的工厂。
目前因为疫情恶化,这两个省已经关闭了部分工厂,调整了员工的上班时间,这些措施一旦持续时间更长,或有更多封锁措施,那么对于供应链的影响将在所难免。
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