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光致发光是半导体的一种发光现象,利用光照射到材料表面,其电子吸收光子而跃迁到高能级,出于高能级的电子不稳定,会回落到低能级,同时伴随着能级差的能量以光辐射的形式发射出来。这个过程就是光致发光,即PL。由于间接带隙半导体材料(比如说Si)的发光需要声子的参与,导致其发光较直接带隙(比如说ZnO)的来说弱很多。那么,做间接带隙材料的低温光致发光谱又有什么特殊的意义?低温下,声子的作用就被大大的削弱,于是,在低温下看到的发光谱就是同一k点(比如布里渊区中心)的复合发光嘛?如果是这样,在低温光致发光谱中反而体现不出间接带隙材料的带隙(因为导带底和价带顶不在同一k点)
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