提高半导体材料的禁带宽度怎么

你好，请问是想问怎么提高半导体材料的禁带宽度吗？提高半导体材料的禁带宽度如下：

1、添加参杂去提高；

2、改变材料的大小。禁带宽度指的是一个能带宽度,也叫做带隙,单位是电子伏特(eV)。禁带宽度是半导体的一个重要特征参量,其大小主要决定于半导体的能带结构,即与晶体结构和原子的结合性质等有关。

绝缘体的禁带宽度：绝缘体的禁带宽度比较大（6~7ev），而半导体的禁带宽度通常在1ev左右，例如300K下，Si的Eg 1.12ev，Ge 0.67ev，GaAs 1.43ev,当外界条件变化的时候，里面的电子会获得能量，获得能量之后，满带中少量电子，跃迁到上一个空带的底部附近，所以满带中的电子和原先空带中的少量电子都参与导电，所以常温下具有一定的导电能力，通常把满带中，少量电子跃迁后，剩余的大量电子对电流的贡献，用少量的带正电的准粒子加以等效描述，称为空穴。

禁带宽度：1.12, 0.66, 1.42, 3.44 6H- SiC:3, 4H- SiC:3.25, 3C-SiC:2.3 (eV) 电子迁移率: 1350, 3800, 8000, 2000，3000左右 (cm^2/(V·s))

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