半导体原材料清洗用纯水设备应用特点有哪些？

1、工业纯水设备实行全自动、手动冲洗，EDI 装置无需化学再生，并节能回收

2、RO膜在机内可进行化学药物清洗

3、源水，纯水，超纯水箱液位实行全自动控制，高水位自动停机及自动清洗功能，低水位自动开机及前处理反冲洗功能。

4、多级高压泵缺水保护，高低压保护，二级RO浓水自动回用，并自动调节PH值。

5、失压、欠压、过流、过载、短路、断路、漏电保护。

当前国内半导体行业应用的超纯水设备一般有前端预处理及RO、EDI提纯等工序。

1.根据超纯水设备的材质不同，选用的RO膜的品牌不同以及EDI模块的吨位及品牌区别，价格上也有很大的差距。

2.其中价格中膜元件及设备材质因素会极大地影响整体设备的价格。

3.具体的加工工艺以及厂家报价也会对价格有所影响。

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