半导体行业有用到超声波清洗机吗?

有啊，比如清洗半导体硅片。随着半导体材料技术的发展，对硅片的规格和质量也提出更高的要求，适合微细加工的大直径硅片在市场的需求比例将日益加大。半导体,芯片,集成电路,设计,版图,芯片,制造,工艺目前世界普遍采用先进的切、磨、抛和洁净封装工艺，使制片技术取得明显进展。最新尖端技术的导入，使SOI等高功能晶片的试制开发也进入批量生产阶段。对此，硅片生产厂家也增加了对300mm硅片的设备投资，针对设计规则的进一步微细化。利用超声波清洗技术，在清洗过程中超声波频率在合理的范围内往复扫动，带动清洗液形成细微回流，使工件污垢在被超声剥离的同时迅速带离工件表面，提高清洗效率。

超声波清洗方法及其放置方向

将被洗研磨硅片水平状放置在清洗槽底部上方栅栏状的石英棒框架上，在确保清洗槽内具有去离子水高度并不断流动的条件下，利用设在清洗槽底部的超声波振子进行清洗，超声波频率为40KHz，每5分钟将研磨硅片翻一个面，连续超洗至被超洗的研磨硅片表面没有黑色污染物冒出止。超声波清洗单晶硅片装置清洗槽的槽壁上设有进水口和出水口，槽底部下方设有超声波振子，清洗槽槽内设有一搁置单晶硅片的框架，框架底壁为栅栏状的石英棒形成的平面低于去离子水水平面，整个框架由支撑脚支撑在清洗槽内。

具体实施时，石英棒距离清洗槽的底壁为15厘米。清洗时，单晶硅片可以平置在石英棒上，将现有的竖超洗改成平超洗，消除了单晶硅片在竖超洗状态下，污染物会残留堆积在硅片表面，形成局部区域清洗不干净，以及承载硅片的软体花篮会吸附和阻挡掉超声波源的传递，从而造成硅片表面局部区域清洗不干净的现象，具有结构更简单、用水量大大减少的优点。

1、半导体材料类产品

超声波清洗设备可以清洗的半导体材料类产品工件有集成电路芯片、功率管、硅片、镓砷化物、二极管、铅框、毛细管、托盘等。这种工作方面若是有毛絮、蚀刻工艺油、冲压油、抛光腊及其尘粒等污渍，超声波清洗设备都能够进行合理的清洗。

2、电子及电气类的产品

电子电气类产品工件有许多都能用超声波清洗设备来清洗，主要包含有电子管构件、阴极射线、印刷电路板、石英构件、电阻器、直流电压表、可变性式电容器、断路器、继电器、连接器、可变性式连接器、电解法交流接触器、扬声器构件、功率表、离心水泵上的马达/滚轮/固定片等等。这种产品工件上若是有手指印、粉状、切割油、冲压油、铁屑、抛光材料、胡桃粉状、抛光腊、粘腻、环氧树脂、尘土等均可使用超声波清洗设备清洗。

3、光学类产品

包含镜头、棱镜、透镜、过滤镜片、玻璃装置、菲林及其光纤等在内的光学装置类产品工件，也能够通过超声波清洗设备将上面的塑料残余、环氧树脂、石腊、手指印等污渍清洗干净。除开半导体材料类、电子电气类及其光学装置类产品工件以外，性价比高价格便宜的超声波清洗设备还能够对五金和机械类的产品工件、电镀类产品工件、汽车零配件还有各种化学纤维产品进行清洗，不难看出，超声波清洗机不可清洗范畴非常广泛，所以才使它变成每个中国的制造业清洗新宠。

网页链接

DNS是厂商名字，中文叫迪恩士，就是化学清洗槽（也叫酸槽/化学槽），主要有HF,,H2SO4,H2O2，HCL等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，去离子,去原子，最后还有DI清洗。IPA是异丙醇，就是工业酒精，是用来clean机台或parts的，是为了减少partical的。

---