半导体fab金属离子浓度

半导体生产废水中的金属离子种类很多，主要有铜、镍、锡、铅、银等，一般浓度在几十mg/L左右。

半导体知识产权泛指FABIP，也即Fab+intellectualproperty源于Fab是集成电路的制造业产业链源头，Fab专注于晶圆的生产制造，而Fabless专注于Chip的设计，这就是分工。

工具/原料

高效除镍剂HMC-M2

H2SO4/HCl

PAC、PAM

1、测量含镍废水中镍离子的浓度，例如Cni=40ppm(mg/L)

2、计算HMC-M2使用量。例如：浓度为40ppm的含镍废水，每吨废水中需要加入300g高效除镍剂HMC-M2。（一般HMC-M2使用量为废水中镍离子含量的15倍左右）

3、调节废水的PH值到2.5左右

4、投加HMC-M2，并搅拌10min。

5、投加等量的PAC，并搅拌5min。

6、投加少量的PAM，并缓慢搅拌后静止沉淀，取上清液测量镍离子的含量，达标并排放。