中微半导体设备(上海)有限公司(以下简称“中微”)正式发布了第一代电感耦合等离子体刻蚀设备Primo nanova®，用于大批量生产存储芯片和逻辑芯片的前道工序。该设备采用了中微具有自主知识产权的电感

上海2012年10月22日电 美通社 -- 今年IC China（一年一度在上海举办的业内知名半导体展会和论坛）展会期间，先进的设备制造商 -- 中微半导体设备（上海）有限公司（以下简称“中微公司

中微半导体设备（上海）有限公司（以下简称“中微”）于本周 SEMICON West 期间发布面向22纳米及以下芯片生产的第二代300毫米甚高频去耦合反应离子刻蚀设备 -- Primo AD-RIE™。

引言最近在外延膜的导电率控制和高质量块状氧化锌衬底的可用性方面的进展重新引起了我们对用于紫外光发射器和透明电子器件的氧化锌氧化锌氧化锌异质结构系统的兴趣。虽然GaNAlNInN系统被用于这些相