半导体芯片制造有哪些工艺流程,会用到那些设备,这些设备的生产商有哪些?

半导体芯片制造有哪些工艺流程,会用到那些设备,这些设备的生产商有哪些?,第1张

主要是对硅晶片(Si

wafer)的一系列处理

1、清洗

->

2、在晶片上铺一层所需要的半导体

->

3、加上掩膜

->

4、把不要的部分腐蚀掉

->

5、清洗

重复2到5就可以得到所需要的芯片了

Cleaning

->

Deposition

->

Mask

Deposition

->

Etching

->

Cleaning

1、中的清洗过程中会用到硝酸,氢氟酸等酸,用于清洗有机物和无机物的污染

其中Deposition过程可能会用到多种器材,比如HELIOS等~

Mask

Deposition过程中需要很多器材,包括Spinner,Hot

plate,EVG等等~

根据材料不同或者需要的工艺精度不同,Etching也分很多器材,可以使用专门的液体做Wet

etch,或者用离子做Plasma

Etching等

最后一部的Cleaning一般是用Develpoer洗掉之前覆盖的掩模~

多数器材都是Oxford

Instruments出的

具体建议你去多看看相关的英文书,这里说不清楚。。

来历及作用

UNS.exe进程程序文件是由美国半导体芯片制造商Intel(英特尔)公司为其发布的Intel芯片组驱动程序的一个组成部分,被描述为为:Intel(R) Active Management Technology User Notification Service,即英特尔(R)主动管理技术用户通知服务。uns.exe的功能主要体现为热能管,它介于固件和系统驱动之间,类似于一种接口(Interface),通过这个接口系统可以和固件之间相互作用,从而达到改善热能管理的目的。(taskmgr.exe是什么进程)

常见所在位置:C:/Program Files(C为系统盘所在盘符)

本程序是一个后台程序(不需用户干预的情况下运行于 *** 作系统后台的计算机进程),我之所以能看到其运行,应该是您的电脑采用了Intel公司的芯片组,并安装了相应的驱动程序(UNS.exe会随驱动一起被安装)。通常情况下UNS.exe进程是会自动开机启动运行的,但这一点我们可以通过修改电脑启动项(MSCONFIG)中的服务来将其关闭。

提示: 有过一下用户反映UNS.exe程序在Win7系统下的部分版本存在内存泄漏问题,这会导致其占用过多的内存资源,可通过更新芯片组驱动程序或BIOS来解决。

UNS.exe病毒

目前来看还鲜有相关病毒感染的实例,但不排除一些病毒正在利用和程序一样或类似的名词进行传播,对此我们可通过以下几点方法对其进行鉴别:

没有使用因特尔芯片组的电脑上出现本进程;本进程不在安装目录,而在C:/Windows或者C:/Windows/System32/目录下;有两个或更多个UNS.exe同时在运行;本进程无法被关闭(这通常是木马病毒的自我保护功能引起)。

若出现以上情况请及时更新杀毒软件病毒库对电脑进行全盘查杀,必要时可考虑重装系统。


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原文地址: http://outofmemory.cn/yw/7707284.html

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