三星10nm工艺技术已经在Galaxy S8上提供支持

三星10nm工艺技术已经在Galaxy S8上提供支持,第1张

三星10纳米工艺技术公告:全球领先的三星电子先进的半导体元器件技术正式宣布,其第二代10纳米(nm)FinFET工艺技术,10LPP(Low Power Plus)已经合格并准备就绪用于批量生产。随着3D FinFET结构的进一步增强,与具有相同面积缩放的第一代10LPE(低功耗早期)工艺相比,10LPP允许高达10%的性能或15%的功耗。去年10月,三星半导体是业界率先在10LPE上开始批量生产片上系统(SoC)产品的行业。最新的高级Galaxy S8 Android智能手机由其中一些半导体元件提供支持。

 

 

三星半导体元器件

为了满足广泛客户对10nm工艺的长期需求,三星半导体已经开始在韩国华城最新的S3线安装生产设备。新的生产线预计将在2017年第四季度投产。

 

 

半导体元件

高性能智能手机

三星电子公司铸造营销副总裁李妍表示:“凭借我们10LPE的成功经验,我们已经开始生产10LPP,以保持我们在先进节点铸造市场的领先地位。

“10LPP将是高性能智能手机,移动计算和网络应用的关键流程产品之一,而三星半导体将继续提供最先进的逻辑处理技术。”Lee补充说。

三星组件

 

欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出

原文地址: https://outofmemory.cn/dianzi/2532835.html

(0)
打赏 微信扫一扫 微信扫一扫 支付宝扫一扫 支付宝扫一扫
上一篇 2022-08-05
下一篇 2022-08-05

发表评论

登录后才能评论

评论列表(0条)

保存