镀镍工艺有几种?如何选择镀镍工艺?

九种镀镍工艺外，还有氯化物镀镍、氟硼酸盐镀镍、焦磷酸盐镀镍等，这些镀镍工艺应用较少。

1、暗镍。除个别用作功能性镀层外，主要是用作防护装饰性镀层的打底镀层，以取代氰化物镀铜工艺，增加镀层的结合力。

2、半亮镍。在暗镍镀液中加入少量不含硫的具有良好整平能力的添加剂，就可获得半光亮的整平能力极佳的镀镍层。它常用作三层镍工艺的中间镀层。由于镀层中不含硫，它的电极、电位与亮镍镀层(含硫)之间有l20mv以上的电位差。从而提高了抗蚀性。

3、光亮镍。在暗镍镀液中加入某些光亮剂可获得全光亮类似镜面光亮的镍层。它常用在半光亮镀镍层之上增加其装饰性能和抗蚀性。光亮剂中因含有硫的有机物，故在镀层中有硫原子夹杂其中，使其与底层半亮镍层有一定电位差。

4、高硫镍。在半亮镍与光亮镍之间，镀上一层硫含量为0.12%。0.25%的镍层，称为高硫镍。这种镀层的化学活性很高，主要用在钢、锌合金基体的防护装饰性镀层的中间镀层，由于半亮镍、高硫镍及光亮镍三层镍之间因硫含量不同而造成两层之间的电位差达到100.140mY，使纵向腐蚀变成横向腐蚀，达.到延缓基体金属腐蚀的目的。

5、珍珠镍(又称缎面镍)。它是一种外观似缎面状的镀镍层，在阳光下不会产生眩目的反光，人眼注视时不会感觉眩晕、疲劳。这类镀层广泛用在汽车制造、手术器械、机床、仪器仪表等行业。

6、黑镍。这是一种具有良好消光性能的镍镀层。镀层中大约含镍40%.60%，其余为锌、硫及有机物。这种镀层硬度比镀锌黑钝化硬，耐磨性能好。多用于光学仪器及摄像设备的制造。也用于太阳集热器的制造。

7、高应力镍。在特定的镀镍溶液中，加入适量的添加剂能镀出应力较大的镀镍层，由于应力较大，这种镀层表面会产生许多微裂纹。在这种镍层表面再镀上一层普通铬镀层，就形成了微裂纹铬，当裂纹密度达到300。1500条，cm时，就会有很强的抗蚀性能。

8、柠檬酸盐镀镍。这种镀液是在中性pH值条件下工作的，主要用在锌铝压铸件、铝件的电镀打底镀层。以保证镀层与基体金属之间有良好的结合力。

9、氨基磺酸盐镀镍。从这种镀液中可获得低应力镍层。主要用在电铸镍或印刷线路板镀金前的镍镀层。但这种镀液成本较高。

化学镀镍半导体拉力不好的原因

A . PH值过低，反应慢，沉积速度低

B．PH值过高，溶液会反应剧烈，呈沸腾状，出现深灰色镍粉（溶液自然分解的象征）

*** 作中可以添加氨水来补充蒸发了的氨和中和沉积反应时产生的酸4.温度：

温度对沉积速度影响很大，温度俞高，沉淀速度俞快，当温度低于700C 反应已不进行，当温度高于950C时，将大大降低溶液的稳定性，特别是加热不均匀，PH值偏高时，很容易的自然分解

5.镀镍的时间：

时间过长，沉积的镍层过厚，在烧结时会导镍层致脱落，镀镍失败

时间过短，沉积的镍层过薄，烧结渗入芯片中的镍层不足，不会与二次镍足够的接合在一起，导致抗拉力不足。

本公司镀镍工艺采用渐延长时间的镀镍工艺，2-4min,控制镍层在一个比较均匀的范围内

6.烧结：

由于热能的驱动，加上镍是比较活泼的金属，在高温下镍极易向硅层中渗透。

控制点：

A．氮气的流量

因镍在高温下极易氧化，氮气作为保护气体必须提供足够的保护作用B．推拉杆的速度：

推进的速度过快：热应力过大，层与硅层的附着性降低

拉出的速度过快：芯片过热的情况下拉至炉口导致镍层氧化C．在炉口冷却足够时间：

防止芯片镍层氧化

7.去氧化镍及清洗：

目的：

A．去没有烧渗入硅层内部多余的镍层及氧化镍，为二次镍作与一次镍结合提供清洁，无杂质干扰的环境

B．如氧化镍除去不净，它会增高VF

工艺条件：

85℃热硝酸浸泡4min,浸1：10HF30秒，振清洗10：15min.

控制重点：

A．将一次镍外表的氧化镍及其它杂质振荡清洗撤底，如清洗不净会导致一次镍与二次镍之间的结合不良，最终导致一次镍与二次镍之间的

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