等离子体的应用领域在哪些方面？

纳米材料制备：

石墨烯、碳纳米管、富勒烯、金刚石膜等。

材料改性：高聚物，纺织品。

半导体工业：新半导体材料、亚微米刻蚀。

镀膜：pvd,cvd镀膜。可采用ECR方式。

材料制备：发泡金属材料。

环保：废烟、气、水处理。

医药领域：医疗器材低温消毒。

电子领域：LCD等电子零部件表面清洗。

食品、医药化妆品工业有效成分萃取。

植物种子、微生物菌改性，辅助催化。

光学：平板显示。

-----优普莱等离子体专业从事等离子体研发工作。

等离子体技术用途广泛，即可利用等离子体产生的高温高速射流，还可可进行焊接、堆焊、喷涂、切割、加热切削等机械加工；同时，还可进行活性粒子和辐射来促成某些化学反应；再冶金领域的也应用到·；还可对金属、非金属表面进行处理等。

磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式，就是用电子q系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。

溅射靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏 、激光存储器、电子控制器件等，亦可应用于玻璃镀膜领域，还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。

扩展资料：

注意事项：

保持真空腔体尤其是溅射系统洁净是非常重要的。任何由润滑油和灰尘以及前期镀膜所形成的残留物会收集水气及其他污染物，直接影响真空度获得和增加成膜失败的可能性。短路或靶材起弧，成膜表面粗糙及化学杂质含量超标经常是由于不洁净的溅射室、溅射q和靶材引起的。

为保持镀膜的成分特性，溅射气体(氩气或氧气)必须清洁并干燥，溅镀腔内装入基材后便需将空气抽出，达到工艺所要求的真空度。

参考资料来源：百度百科-溅射靶材

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