半导体超声波清洗机的优势？

全球半导体产业已步入成熟期。未来10年半导体产业年均增长率放缓。手机和消费类电子产品将是推动未来半导体产业增长的主动力。未来半导体产业将是独立半导体产业的天下。未来半导体产业的整合、兼并将越演越烈。未来半导体产业技术会越来越受到关注。例如：半导体产业的基础是硅材料工业，因为硅片表面的污染物会严重影响器件的性能、可靠性、和成品率。随着微电子技术的飞速发展以及人们对原料要求的提高，污染物对器件的影响也愈加突出，清洗技术在半导体行业越来越重要。

以前传统的浸洗、刷洗、压力冲洗、振动清洗和蒸气清洗，这些清洗方法都很容易破坏半导体表面，而且半导体制程中重复次数最多的工序，清洗效果的好坏较大程度的影响芯片制程及积体电路特性等质量问题。在所有的清洗方式中超声波清洗机对半导体的清洗效率最高、效果最好的一种，之所以超声波清洗能够达到如此的效果是与它独特的工作原理和清洗方法密切相关的。我们知道，半导体外形比较复杂，孔内小，利用超声波清洗机的高效率和高清洁度，得益于其声波在介质中传播时产生的穿透性和空化冲击疚，所以很容易将带有复杂外形，内腔和细空清洗干净，在超声波作用下只需两三分钟即可完成，其速度比传统方法可提高几倍，甚至几十倍，清洁度也能达到高标准，提高了对半导体的生产效率，更突出显示了用其他处理方法难以达到或不可取代的结果。

又有一定影响，超声波后会在半导体表面形成一层薄薄的水层（如果你是用去离子水超声，如果是用酒精或者是丙酮的话也会有一层有机物的)这层水分子层不会很多也就几个原子的量级，但是用氮气或者氩气其表面的话仍然也会有一点影响，但是导致其电阻是否变大还是变小就不清楚了，这要看你半导体电阻的真实值和水层的电阻大小有关，如果你不想这层水层有影响的话，超声后最好放到真空烘箱里面烘一下，温度设定在50到60度。如果没有条件的话，建议多测几次求平均值。当然除了水的影响，可能还会跟半导体表面的微结构有关系，超声波是一种能量，这个能量有没有可能导致半导体表面微结构发生改变，这我也不知道。但是通常我们认为是没有关系的，如果在超声前和超声后的电阻变化不大，可以认为是没有影响的，但如果相差很大的话，你可以考虑是不是超声导致你的半导体结构发生改变了。

半导体超声炮是有效果的，而且半导体的超声炮的效果相比较于其他类型的超声炮是非常好的，因此效果也是非常明显的，所以说半导体超声炮是有效果的，而且效果还是挺不错的，当然这也只是个人的看法

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